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常用的掩蔽干扰离子的办法有哪些

2021.9.22

配位掩蔽法、沉淀掩蔽法和氧化还原掩蔽法.配位掩蔽法,当溶液中存在其他金属离子N时,由于N与Y发生副反应,降低了条件稳定常数,给M离子滴定带来误差。加上N离子还可能对指示剂有封闭作用。这时可采用配位掩蔽法,就是通过加入掩蔽剂,使掩蔽剂与干扰离子形成稳定配合物,降低溶液中游离N的浓度,从而减小,增大而使M可以单独滴定。沉淀掩蔽法,就是加入沉淀剂,使干扰离子产生沉淀而降低N离子浓度。如在强碱溶液中用EDTA滴定Ca(有Mg干扰),强碱与Mg形成Mg(OH)↓,这样Mg就不干扰Ca的测定。氧化还原掩蔽法,就是利用氧化还原反应改变干扰离子的价态以消除干扰。例如Fe是一强的封闭剂,加入还原剂使溶液中Fe还原成Fe,可达到掩蔽作用。在实际应用中最常用的还是配位掩蔽法。氧化还原掩蔽法是指在EDTA滴定过程中加入氧化剂或还原剂,改变干扰离子价态以消除干扰的方式。   例如:   Bi3+ 和 Fe3+ 共存时,测定Bi3+ 时Fe3+ 有干扰,可加抗坏血酸(维生素C)将Fe3+ 还原为Fe2+ ,大大降低了铁离子和EDTA配合物的稳定性,从而消除Fe3+ 对Bi3+ 测定的干扰。

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