SJ 20714-1998
砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法

Test method for sub-surface damege of gallium arsenide polished wafer by X-ray double crystal diffraction


SJ 20714-1998 中,可能用到以下仪器

 

EVG 301  Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统

EVG 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统

北京亚科晨旭科技有限公司

 

SJ 20714-1998

标准号
SJ 20714-1998
发布
1998年
发布单位
行业标准-电子
当前最新
SJ 20714-1998
 
 
本标准规定了砷化镓抛光片亚损伤层的X射线双晶衍射试验方法。 本标准适用于经过化学、机械单面和双面抛光的砷化镓晶片亚损伤层的定性测量。

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