GB/T 39145-2020
硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
GBT39145-2020, GB39145-2020
GB/T 39145-2020 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 39145-2020
- 别名
- GBT39145-2020
GB39145-2020 - 发布
- 2020年
- 发布单位
- 国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会
- 当前最新
- GB/T 39145-2020
- 引用标准
- GB/T 14264 GB/T 17433 GB/T 19921 GB/T 25915.1 GB/T 37837 GB/T 6624 JJF 1159
- 本标准规定了电感耦合等离子体质谱法测定硅片表面金属元素含量的方法。 本标准适用于硅单唱抛光片和硅外延片表面痕量金属钠、镁、铝.钾、钙.铬.锰.铁、钻、锦、铜、锌元素含量的测定,测定范围为 10 cm 一10 cm“。本标准同时也适用于硅退火片、硅扩散片等无图形 硅片表面痕量金属元素含量的测定。 注: 硅片表面的金属元素含量以每平方厘米的原子数计。
GB/T 39145-2020相似标准
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