Microlight3D公司推出的DMD无掩模光刻系统Smart Print UV系列是一种基于DMD投影技术的无掩模光刻设备,可兼容多种抗蚀剂和基材。Smart Print UV可以在微米分辨率下产生任何2D形状,而不需要硬掩模。...
接近式曝光技术为光罩掩模与基板相互靠近保持较近的间隙(gap),以UV光由MASK侧面照射,将图案投射在基板上对光阻进行曝光。一般而言,光罩尺寸较基板大,所以图案将以1:1的大小转印到光阻上,此方法精度较所常用的步进机(stepper,能输出一定频率和波长的光线)或镜像投影(Mirror Projection)来得差,但其优点为产量(throughput)大,设备便宜。...
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