DIN 50437:1979
半导体无机材料的试验.用红外线干涉法测量硅外延生长层的的厚度

Testing of semi-conductive inorganic materials; measuring the thickness of silicon epitaxial layer thickness by infrared interference method

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标准号

DIN 50437:1979

发布

1979年

发布单位

德国标准化学会

当前最新

DIN 50437:1979

 

 

适用范围

半导体无机材料测试；红外干涉法测量硅外延层厚度矿物半导体材料测试；外延硅沉积物厚度的测量

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