JIS K 0143:2000
表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
Surface chemical analysis -- Secondary ion mass spectrometry -- Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials
2023-02
说明：
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- 标准号
- JIS K 0143:2000
- 发布
- 2000年
- 发布单位
- 日本工业标准调查会
- 替代标准
- JIS K 0143:2023
- 当前最新
- JIS K 0143:2023
- この規格は，ボロンを注入して作製した認証標準試料で校正した均一添加試料を用いて，単結晶シリコン中のボロンの原子濃度を決定するための二次ィオン質量分析法を規定する。濃度範囲として1×10<上16>atoms/cm<上3>から1×10<上20>atoms/cm<上3>の範囲の均一に添加されたボロンの濃度を決定する場合にこの方決を用いる。
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