ASTM E827-02 通过 Auger 电子光谱测定中的峰值识别元素的标准实施规程引用关系

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标准号: ASTM E827-02
发布: 2002年
发布单位: 美国材料与试验协会
替代标准: ASTM E827-07
当前最新: ASTM E827-08

俄歇分析用于确定样品表面前几个原子层（通常厚度为 0.5 至 2.0 nm）的元素组成。与惰性气体离子溅射结合，它用于确定几微米深度的溅射深度分布。样品通常是固体导体、半导体或绝缘体。对于绝缘体，可能需要采取措施来控制表面的电荷积累（参见指南 E 1523）。典型应用包括分析金属或合金基材上的薄膜沉积物或隔离覆盖层。样品的形貌可能会有所不同，从光滑、抛光的样...

ASTM E827-02
通过 Auger 电子光谱测定中的峰值识别元素的标准实施规程

Standard Practice for Indentifying Elements by the Peaks in Auger Electron Spectroscopy

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