ASTM E2244-02
用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法

Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer

被代替

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标准号

ASTM E2244-02

发布

2002年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM E2244-05

当前最新

ASTM E2244-11(2018)

 

 

适用范围

1.1 本测试方法涵盖了测量图案化薄膜面内长度（包括偏转）的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用干涉仪对其进行成像。
1.2 还有其他方法可以确定面内长度。使用设计尺寸通常比使用光学干涉仪进行的测量提供更精确的面内长度值。 （干涉测量通常比使用光学显微镜进行的测量更精确。）该测试方法适用于当干涉测量优于使用设计尺寸时（例如，测量面内偏转时以及在未经证实的情况下测量长度时）。制造过程）。
1.3 该测试方法使用非接触式光学干涉仪，能够获取地形 3-D 数据集。它是在实验室中进行的。
1.4 测量的最大面内长度由干涉仪在最低放大倍率下的最大视场决定。测量的最小偏转由干涉仪在最高放大倍率下的像素间距决定。
1.5 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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