ASTM E2244-11e1
采用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法
Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
- 标准号
- ASTM E2244-11e1
- 发布
- 2011年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM E2244-11(2018)
- 当前最新
- ASTM E2244-11(2018)
- 引用标准
- ASTM E2245 ASTM E2246 ASTM E2444 ASTM E2530
- 适用范围
- 1.1 该测试方法涵盖了测量图案化薄膜的面内长度（包括偏转）的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用光学干涉仪（也称为干涉显微镜）对其进行成像。 1.2 还有其他方法可以确定平面内长度。使用设计尺寸通常比使用光学干涉显微镜测量提供更精确的面内长度值。 （干涉测量通常比使用光学显微镜进行的测量更精确。）该测试方法适用于当干涉测量优于使用设计尺寸时（例如，测量面内偏转时以及在未经证实的情况下测量长度时）。制作工艺）。 1.3 该测试方法使用非接触式光学干涉显微镜，能够获取地形3D数据集。它是在实验室进行的。 1.4 测量的最大面内长度由干涉显微镜在最低放大倍率下的最大视场决定。测量的最小偏转由干涉显微镜在最高放大倍率下的像素到像素间距确定。
1.5 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。
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