ASTM E2245-05
用光学干涉仪测量反射薄膜残余应力的标准试验方法
Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
ASTM E2245-05 中，可能用到以下仪器
- 标准号
- ASTM E2245-05
- 发布
- 2005年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 替代标准
- ASTM E2245-11
- 当前最新
- ASTM E2245-11(2018)
- 残余应变测量有助于 MEMS 器件的设计和制造。残余应变值用于杨氏模量计算。1.1 该测试方法涵盖了测量薄膜中压缩残余应变的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用干涉仪对其进行成像。不接受接触底层的固定光束的测量。1.2 本测试方法使用非接触式光学干涉仪，能够获取地形 3-D 数据集。它是在实验室中进行的。1.3 本标准并...
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