ASTM E1523-09
X射线光电子谱测定中电荷控制和电荷参照技术的标准指南

Standard Guide to Charge Control and Charge Referencing Techniques in X-Ray Photoelectron Spectroscopy

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标准号

ASTM E1523-09

发布

2009年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM E1523-15

当前最新

ASTM E1523-15

 

 

适用范围

从 XPS 光谱中峰能量位置的变化获取化学信息是使用 XPS 作为表面分析工具的主要兴趣。表面充电的作用是移动光谱峰，而与它们与同一表面上其他元素的化学关系无关。为了消除表面充电对峰位置和峰形状的影响，开发了几种经验方法，旨在帮助解释 XPS 峰位置、确定表面化学并允许比较导电和非导电的光谱。 -相同元素的传导系统。假设光谱仪对于非绝缘样品通常工作正常（参见实践 E 902）。尽管现在已经开发出高度可靠的方法来稳定大多数材料的 XPS 分析过程中的表面电势 (5, 6)，但尚未开发出单一方法来处理所有情况下的表面充电 (10, 11)。对于绝缘体，任何控制或参考系统的适当选择将取决于样本、仪器和所需信息的性质。适当使用电荷控制和参考技术将产生更加一致、可重复的数据。强烈敦促研究人员报告已使用的对照和参考技术、用作标准的特定峰和结合能（如果有）以及确定最佳结果时应用的标准，以便进行适当的比较。1.1该指南使 X 射线光电子能谱 (XPS) 用户熟悉各种电荷控制和电荷位移参考技术，这些技术已经用于从绝缘样品表面采集和解释 XPS 数据，并提供了报告所用方法所需的信息给客户或文献中。
1.2 本指南旨在适用于 XPS 中的电荷控制和电荷参考技术，不一定适用于电子激发系统。
1.3 以 SI 单位表示的值应被视为标准值。本标准不包含其他计量单位。
1.4 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

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