DIN 50455-1:2009
半导体技术用材料的试验.表征光阻剂方法.第1部分:涂层厚度的光学法测定
Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods
- 标准号
- DIN 50455-1:2009
- 发布
- 2009年
- 发布单位
- 德国标准化学会
- 替代标准
- DIN 50455-1:2009-10
- 当前最新
- DIN 50455-1:2009-10
- 引用标准
- EN ISO 14644-1
- 被代替标准
- DIN 50455-1:2008 DIN 50455-1:1991
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