DIN 50455-1-2009
半导体技术用材料的试验.表征光阻剂方法.第1部分:涂层厚度的光学法测定

Testing of materials for semiconductor technology - Methods for characterizing photoresists - Part 1: Determination of coating thickness with optical methods

DIN 50455-1-2009 发布历史

DIN 50455-1-2009由德国标准化学会 DE-DIN 发布于 2009-10。

DIN 50455-1-2009 在中国标准分类中归属于: H17 半金属及半导体材料分析方法，在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。

DIN 50455-1-2009 发布之时，引用了标准

• EN ISO 14644-1 洁净室和相关控制环境.第1部分:颗粒物浓度的空气洁净度分级*， 2015-12-01 更新

* 在 DIN 50455-1-2009 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。

DIN 50455-1-2009的历代版本如下：

• 1991年06月 DIN 50455-1-1991 半导体工艺材料的检验.表示光致抗蚀剂特性的方法.第1部分:用光学测量法对涂层厚度的测定
• 2009年10月 DIN 50455-1-2009 半导体技术用材料的试验.表征光阻剂方法.第1部分:涂层厚度的光学法测定

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标准号

DIN 50455-1-2009

发布日期

2009年10月

实施日期

废止日期

无

中国标准分类号

H17

国际标准分类号

29.045

发布单位

DE-DIN

引用标准

EN ISO 14644-1

被代替标准

DIN 50455-1-2008 DIN 50455-1-1991

DIN 50455-1-2009系列标准