GB/T 24580-2009
重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱检测方法
Test method for measuring Boron contamination in heavily doped n-type silicon substrates by secondary ion mass spectrometry
GBT24580-2009, GB24580-2009
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- 标准号
- GB/T 24580-2009
- 别名
- GBT24580-2009
GB24580-2009 - 发布
- 2009年
- 采用标准
- SEMI MF 1528-1104 MOD
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 24580-2009
- 引用标准
- ASTM E122
- 1.1本标准规定了重掺n型硅衬底中硼沾污的二次离子质谱测试方法。本标准适用于二次离子质谱法(SIMS)对重掺n型硅衬底单晶体材料中痕量硼沾污(总量)的测试。
1.2本标准适用于对锑、砷、磷的掺杂浓度<0.2%(l×10
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