高纯度水蒸发后残留物在线测量的标准试验方法 是非强制性国家标准,您可以免费下载预览页
上海安谱科学仪器有限公司
在典型半导体器件的整个制造过程中,会有 100 多个清洗步骤,清洗晶圆时所用的一个典型溶液就是 RCA 开发的化学品混合物,通常称为标准清洗 1 (SC-1)。SC-1 是 NH4OH、过氧化氢 (H2O2) 和超纯 水 (UPW) 按 1:1:5 的比例配制而成的混合溶液,可用于轻微腐蚀晶圆,以去除表面颗粒。需要采用高度灵敏的可靠分析方法测量配制 SC-1 的高纯度化学品中的金属杂质。...
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