半导体、电子行业是目前世界上要求最高标准的超纯水用户。超出水制造技术的发展极大地推动了半导体和电子工业的技术进度。同时半导体、电子工业的迅速发展促进了超纯水制造技术装备的发展。 ...
2、应用需求高 在电子工业用水和进行ppt级的痕量分析实验用水都要求将超纯水的硅含量降到最低。在半导体/FPD工艺中,超纯水中硅的浓度会给产品精度、成品率和原材料利用率带来很大影响。在进行ppt级的痕量分析中,硅作为一种弱电离离子,其含量的变化对电阻率的影响甚小,所以不容易被发觉。在现有纯化技术中, RO对硅的去除率可以达到80%,EDI对硅的去除率可以达到99%[1]。...
半导体工艺用高纯水中硅、硼的去除[J]. 电子学报, 2005, 33(2):197-199....
TOC仪将会逐渐成为超纯水机的标准配置超纯水机大致分为预处理、反渗透、超纯化、终端超滤四个单元:1. 自来水首先通过预处理单元,去除水中较大的颗粒、悬浮物以及部分有机物。2. 进入反渗透单元,对水中的离子物质和大分子物质(如病毒、微生物等)进行截留性去除。3. 再经过纯化和超纯化单元,对经过膜去除后残余的微少离子进行纯化和超纯化,使水中的离子含量降低到痕量水平。4....
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