电子级氢氟酸杂质含量检测方案01引言高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂,可与硝酸、冰醋酸、双氧水及氢氧化铵等配置使用,主要应用于集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,其他方面用量较少。...
8.2 检出限(LOD)和定量限(LOQ)按下列实验步骤确定铅、镉或铬的方法检出限和定量限。a)准确称取适量已知不含铅、镉或铬的样品(例如 ,有证标准物质)或根据第 4 部分中的相关步骤可能会干扰分析的其他化合物。将样品依次放入每个容器中,重复样品至少 5 个。b) 在每个容器中加入 10 铅、镉或铬储备溶液[1 v)]。c) 根据第 4 部分的测试相关步骤进行消解和光谱测定。...
接着是1955年和1960年版。第4版(1968年)和第5版(1974年)、第6版(1981年)、第7版(1986年)。《ACS规格》是当前美国最有权威性的一部试剂标准。...
锌是常见元素,要注意防止污染。 在乙炔 ─ 一氧化二氮富燃性火焰中测定铝,钙、锌、铜、铅、镁、钠等不影响铝的测定。铁、硫酸浓度>0.2%时,会使铝的测定灵敏度增加。加进钛或醋酸时,会增加铝的测定灵敏度。铝的部分电离,在试样和标准溶液中加进易电离的碱金属盐可以抑制这一干扰。 在乙炔-空气火焰中测定钙,铝、铍、硅、钛、钒、锆、磷酸盐、硫都会干扰钙的测定,降低钙的灵敏度。...
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