GB/T 1557-1989
硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

The method of determining interstitial oxygen content in silicon by infrared absorption

GB/T 1557-1989 发布历史

本标准规定了用红外吸收测定硅晶体中间隙氧含量的方法。 本标准适用于室 温电阻率大于0.1Ω·cm的硅晶体中氧含量的测量。测量范围为：氧的浓度从3.5×15at·cm至最大固溶度。

GB/T 1557-1989由国家质检总局 CN-GB 发布于 1989-03-31，并于 1990-02-01 实施。

GB/T 1557-1989 在中国标准分类中归属于: H21 金属物理性能试验方法，在国际标准分类中归属于: 77.040.30 金属材料化学分析。

GB/T 1557-1989的历代版本如下：

• 1989年03月31日 GB/T 1557-1989 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
• 2006年07月18日 GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
• 2018年09月17日 GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法

GB/T 1557-1989 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法 于 2006-07-18 变更为 GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法。

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标准号

GB/T 1557-1989

发布日期

1989年03月31日

实施日期

1990年02月01日

废止日期

无

中国标准分类号

H21

国际标准分类号

77.040.30

发布单位

CN-GB

代替标准

GB/T 1557-2006

适用范围

本标准规定了用红外吸收测定硅晶体中间隙氧含量的方法。 本标准适用于室 温电阻率大于0.1Ω·cm的硅晶体中氧含量的测量。测量范围为：氧的浓度从3.5×15¹⁵at·cm^-3至最大固溶度。

GB/T 1557-1989系列标准

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