半导体 光 性能
本专题涉及半导体 光 性能的标准有72条。
国际标准分类中，半导体 光 性能涉及到陶瓷、光纤通信、表面处理和镀涂。
在中国标准分类中，半导体 光 性能涉及到特种陶瓷、光通信设备、半导体分立器件综合、催化剂、日用玻璃、陶瓷、搪瓷、塑料制品综合。
法国标准化协会，关于半导体 光 性能的标准
- NF B44-101-5-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲硫醇的清除
- NF B44-101-4-2021 精细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第4部分: 甲醛的清除
- NF B44-101-4-2013 细陶瓷 (现代陶瓷, 高级工业陶瓷) - 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 - 第4部分: 甲醛的清除
- NF B44-101-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲硫醇的清除
国际标准化组织，关于半导体 光 性能的标准
- ISO 22197-4:2021 精细陶瓷（高级陶瓷 高级技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能测试方法 - 第4部分:去除甲醛
- ISO 22197-5:2021 精细陶瓷（高级陶瓷 高级技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气纯化性能测试方法 - 第5部分:去除甲硫醇
- ISO 22197-4-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲醛的清除
- ISO 22197-5-2021 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能的试验方法. 第5部分: 甲硫醇的清除
- ISO 22197-3:2019 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能试验方法 - 第3部分:去除甲苯
- ISO 22197-2:2019 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能试验方法 - 第2部分:去除乙醛
- ISO 22601:2019 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工业陶瓷）.通过定量分析总有机碳（TOC）测定半导体光催化材料苯酚氧化分解性能的试验方法
- ISO 17168-3:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第3部分:去除甲苯
- ISO 17168-5:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第5部分:去除甲硫醇
- ISO 17168-1:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第1部分:去除一氧化氮
- ISO 17168-4:2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第4部分:去除甲醛
- ISO 19810-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料自清洁性能的试验方法. 水接触角测量
- ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化
- ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 半导体光催化材料空气净化性能试验方法. 第1部分: 一氧化氮净化
- ISO 18560-1:2014 精细陶瓷（高级陶瓷 高级工艺陶瓷） - 室内照明环境下用试验箱法测定半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 - 第1部分:甲醛去除率
- ISO 22197-4:2013 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第4部分:甲醛的去除
- ISO 22197-5:2013 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第5部分:甲硫醇的去除
- ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲醛的清除
- ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第5部分:甲硫醇的清除
- ISO 22197-3-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第3部分:甲苯的清除
- ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.第2部分:乙醛的清除
- ISO 22197-3:2011 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第3部分:甲苯的去除
- ISO 22197-2:2011 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料空气净化性能试验方法第2部分:乙醛的去除
- ISO 10676-2010 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工艺陶瓷).利用活性氧形成能力测定半导体光催化材料的水净化性能的测试方法
- ISO 10676:2010 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——通过测定活性氧形成能力测定半导体光催化材料净水性能的试验方法
- ISO 27448:2009 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）——半导体光催化材料自清洁性能的试验方法——水接触角的测量
- ISO 22197-1-2007 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
，关于半导体 光 性能的标准
- KS L ISO 17168-4-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第4部分:去除甲醛
- KS L ISO 22197-5-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能试验方法 - 第5部分:去除甲硫醇
- KS L ISO 17168-1-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第1部分:去除一氧化氮
- KS L ISO 17168-2-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第2部分:去除乙醛
- KS L ISO 17168-3-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下半导体光催化材料空气净化性能试验方法 - 第3部分:去除甲苯
- KS L ISO 22197-2-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能试验方法 - 第2部分:去除乙醛
- KS L ISO 22197-3-2020 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能测试方法 - 第3部分:去除甲苯
- KS L ISO 22197-4-2020 精细陶瓷（高级陶瓷 高级技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能测试方法 - 第4部分:去除甲醛
- KS L ISO 18560-1-2020 精细陶瓷（高级陶瓷 先进技术陶瓷） - 室内照明环境下通过试验室法测定半导体光催化材料的空气净化性能的试验方法 - 第1部分:去除甲醛
- KS L ISO 22197-1-2018 精细陶瓷（先进陶瓷 先进技术陶瓷） - 半导体光催化材料的空气净化性能测试方法 - 第1部分:去除一氧化氮
- KS L ISO 10676-2012(2017) 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）用活性氧形成能力测定法测定半导体光催化材料净水性能的试验方法
- KS L ISO 27448-2011(2016) 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）半导体光催化材料自清洁性能试验方法水接触角的测定
- KS L ISO 27448-2011(2021) 精细陶瓷（高级陶瓷、高级工业陶瓷）－半导体光催化材料自清洁性能试验方法－水接触角的测量
英国标准学会，关于半导体 光 性能的标准
- BS ISO 19810-2017 精细陶瓷(高级陶瓷, 高级工业陶瓷). 室内照明环境下半导体光催化材料自清洁性能的试验方法. 水接触角测量
- BS ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
- BS ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
- BS PD CEN/TS 16599-2014 光催化. 半导体材料光催化性能试验的辐照条件以及此类条件的测量
- BS ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲硫醇的清除
- BS ISO 22197-5-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲硫醇的清除
- BS ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
- BS ISO 22197-4-2013 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法.甲醛的清除
- BS ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
- BS ISO 22197-3-2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
- BS ISO 22197-2-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料空气净化性能的试验方法 乙醛的脱除
- BS ISO 22197-3-2011 精制陶瓷(优质陶器,先进工艺陶器).半导体光催化材料的空气净化性能试验方法.甲苯的移除
- BS ISO 10676-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).用形成活性氧的能力测量半导体光催化材料的水净化性能的试验方法
- BS ISO 10676-2011 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).用形成活性氧的能力测量半导体光催化材料的水净化性能的试验方法
- BS ISO 27448-2009 细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的自洁性能用试验方法.水接触角度的测量
- BS ISO 27448-2009 细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的自洁性能用试验方法.水接触角度的测量
- BS ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷,高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.一氧化氮的移除
德国标准化学会，关于半导体 光 性能的标准
- DIN ISO 22197-1-2016 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除(ISO 22197-1-2007)
- DIN EN 62149-9-2015 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第9部分: 晶种反射半导体光放大器收发器 (IEC 62149-9-2014); 德文版本EN 62149-9-2014
- DIN EN 62149-8-2014 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第8部分: 晶种反射半导体光放大器设备 (IEC 62149-8-2014); 德文版本EN 62149-8-2014
国际电工委员会，关于半导体 光 性能的标准
- IEC 62149-9:2014 光纤有源元件和器件性能标准第9部分:种子反射半导体光放大器收发器
- IEC 62149-8:2014 光纤有源元件和器件 - 性能标准 - 第8部分:种子反射半导体光放大器器件
- IEC 62149-9-2014 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第9部分: 晶种反射半导体光放大器收发器
- IEC 62149-8-2014 纤维光学有源元件和器件. 性能标准. 第8部分: 晶种反射半导体光放大器设备
欧洲标准化委员会，关于半导体 光 性能的标准
- CEN/TS 16599-2014 光催化.半导体材料光催化性能的辐照条件及这些条件的测定
韩国标准，关于半导体 光 性能的标准
- KS L ISO 10676-2012 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工艺陶瓷).利用活性氧形成能力测定半导体光催化材料的水净化性能的测试方法
- KS L ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
- KS L ISO 22197-1-2008 精细陶瓷(高级陶瓷、高级工业陶瓷).半导体光催化材料的空气净化性能用试验方法.第1部分:氧化一氮的移除
