光电子能谱 方法
本专题涉及光电子能谱 方法的标准有21条。
国际标准分类中，光电子能谱 方法涉及到分析化学、光学和光学测量、有色金属。
在中国标准分类中，光电子能谱 方法涉及到基础标准与通用方法、电子光学与其他物理光学仪器、化学助剂基础标准与通用方法、贵金属及其合金。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于光电子能谱 方法的标准
- GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
国家质检总局，关于光电子能谱 方法的标准
- GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
- GB/T 25185-2010 表面化学分析.X射线光电子能谱.荷电控制和荷电校正方法的报告
- GB/T 19500-2004 X射线光电子能谱分析方法通则
国际标准化组织，关于光电子能谱 方法的标准
- ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
- ISO 19318:2021 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 报告用于充电控制和电荷校正的方法
- ISO 20903:2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
- ISO 16129:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 评估X射线光电子能谱仪日常性能的方法
- ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- ISO 17109:2015 表面化学分析 - 深度分析 - X射线光电子能谱法中的溅射速率测定方法 俄歇电子能谱和二次离子质谱法使用单层和多层薄膜的溅射深度分析
- ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.原子发射光谱(AES)和光电子能谱(XPS)中深度剖析用电流或电流密度的离子束校正和相关测量方法
- ISO 20903:2011 表面化学分析——俄歇电子能谱和X射线光电子能谱——报告结果时用于确定峰值强度和所需信息的方法
- ISO 20903:2006 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.报告结果时确定峰值强度和所需信息的方法
- ISO 19318:2004 表面化学分析——X射线光电子能谱；报告用于充电控制和充电校正的方法
英国标准学会，关于光电子能谱 方法的标准
- BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 17109-2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
- BS ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.在光电子能谱(XPS)和原子发射光谱(AES)的深度剖析中离子束校准和电流或电流密度的相关测量用方法
- BS ISO 16531-2013 表面化学分析.深度剖析.在光电子能谱(XPS)和原子发射光谱(AES)的深度剖析中离子束校准和电流或电流密度的相关测量用方法
行业标准-有色金属，关于光电子能谱 方法的标准
- YS/T 644-2007 铂钌合金薄膜测试方法 X射线光电子能谱法 测定合金态铂及合金态钌含量
法国标准化协会，关于光电子能谱 方法的标准
- NF X21-058-2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息
，关于光电子能谱 方法的标准
- KS D ISO 19318-2005(2020) 表面化学分析X射线光电子能谱电荷控制和电荷校正方法报告
