X射线 反射仪

本专题涉及X射线 反射仪的标准有14条。

国际标准分类中，X射线 反射仪涉及到分析化学、信息技术应用、医疗设备。

在中国标准分类中，X射线 反射仪涉及到基础标准与通用方法、长度计量、电子计算机应用、化学、物理学与力学。

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于X射线 反射仪的标准

• GB/T 36053-2018 X射线反射法测量薄膜的厚度、密度和界面宽度 仪器要求、准直和定位、数据采集、数据分析和报告

，关于X射线 反射仪的标准

• KS D ISO 16413-2021 用X射线反射计评估薄膜的厚度、密度和界面宽度.仪器要求、校准和定位、数据收集、数据分析和报告

国际标准化组织，关于X射线 反射仪的标准

• ISO 16413-2020 通过X射线反射法评估薄膜的厚度 密度和界面宽度 - 仪器要求 对准和定位 数据采集 数据分析和报告
• ISO 14706-2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染
• ISO 16413:2013 用X射线反射法评价薄膜的厚度、密度和界面宽度——仪器要求、校准和定位、数据收集、数据分析和报告
• ISO 16413-2013 X射线反射计用薄膜的厚度、密度和接口宽度的评估.仪器邀请,校准和定位,数据收集,数据分析和报告
• ISO 14706-2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染

国家计量技术规范，关于X射线 反射仪的标准

• JJF 1613-2017 掠入射X射线反射膜厚测量仪器校准规范

英国标准学会，关于X射线 反射仪的标准

• BS ISO 16413-2013 采用X射线反射计对薄膜厚度, 密度和接口宽度的评估. 仪器要求. 校准和定位, 数据收集, 数据分析和报告
• BS ISO 16413-2013 采用X射线反射计对薄膜厚度, 密度和接口宽度的评估. 仪器要求. 校准和定位, 数据收集, 数据分析和报告

日本工业标准调查会，关于X射线 反射仪的标准

• JIS K0160-2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
• JIS K0148-2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物

韩国标准，关于X射线 反射仪的标准

• KS A 4029-1990 胸部X射线间接摄影用反射摄影机
• KS A 4029-1990 胸部X射线间接摄影用反射摄影机

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