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硅 荧光光谱

本专题涉及硅 荧光光谱的标准有13条。

国际标准分类中，硅 荧光光谱涉及到分析化学、食品试验和分析的一般方法、黑色金属、玻璃。

在中国标准分类中，硅 荧光光谱涉及到、日用玻璃制品、基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法。

韩国科技标准局，关于硅 荧光光谱的标准

• KS E 3076-2017 硅石和硅砂的X射线荧光光谱分析方法
• KS E 3076-2022 硅石和硅砂的X射线荧光光谱分析方法
• KS D ISO 14706:2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物

欧洲标准化委员会，关于硅 荧光光谱的标准

• CEN/TR 10354:2011 黑色金属材料化学分析 硅铁分析 X射线荧光光谱法测定硅和铝
• PD CEN/TR 10354:2011 黑色金属材料的化学分析 硅铁的分析 X射线荧光光谱法测定硅和铝

中国团体标准，关于硅 荧光光谱的标准

• T/CQCAA 0005-2020 二氧化硅中汞的测定 原子荧光光谱法

法国标准化协会，关于硅 荧光光谱的标准

• FD A06-326*FD CEN/TR 10354:2011 黑色金属材料的化学分析 硅铁的分析 X射线荧光光谱法测定硅铁中的Si和Al

丹麦标准化协会，关于硅 荧光光谱的标准

• DS/CEN/TR 10354:2012 黑色金属材料的化学分析 硅铁分析 X射线荧光光谱法测定Si和Al

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于硅 荧光光谱的标准

• GB/T 40915-2021 X射线荧光光谱法测定钠钙硅玻璃中SiO2、Al2O3、Fe2O3、K2O、Na2O、CaO、MgO含量
• GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

英国标准学会，关于硅 荧光光谱的标准

• BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
• BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
• BS ISO 14706:2001 表面化学分析 采用全反射X射线荧光（TXRF）光谱法对硅片表面元素污染物的测定

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