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金イオンスパッタリング装置

金イオンスパッタリング装置は全部で 87 項標準に関連している。

金イオンスパッタリング装置 国際標準分類において、これらの分類：真空技術、流体システムおよび一般部品、人体健康器具、分析化学、非鉄金属製品、非鉄金属、半導体材料、ジュエリー、放射線防護、放射線測定、航空宇宙製造用の材料、ポンプ、光学および光学測定、ゴム、電気、磁気、電気および磁気測定、ゴムやプラスチックの原料、土壌品質、土壌科学、総合電子部品。

Professional Standard - Electron, 金イオンスパッタリング装置

SJ 1781-1981 スパッタイオンポンプ - 試験方法
SJ 1779-1981 通常のダイオードスパッタリングイオンポンプパラメータシリーズ
SJ 1780-1981 通常のダイオードスパッタリングイオンポンプ。技術的条件

Professional Standard - Machinery, 金イオンスパッタリング装置

JB/T 4081-2011 真空技術スパッタイオンポンプ
JB/T 4082-1991 スパッタリングイオンポンプの技術条件
JB/T 2965-1992 スパッタイオンポンプの性能試験方法
JB/T 4081-1991 スパッタリングイオンポンプの種類と基本パラメータ

German Institute for Standardization, 金イオンスパッタリング装置

DIN 28429:2003 真空技術スパッタイオンポンプの受け入れ仕様
DIN IEC/TS 62743:2013 放射線防護機器、電離放射線のパルス場用電子計数放射線量計 (IEC/TS 62743-2012)
DIN CEN/TS 15605:2008 銅および銅合金誘導結合プラズマ発光分析
DIN EN 15605:2010-12 銅および銅合金 - 誘導結合プラズマ発光分析

Group Standards of the People's Republic of China, 金イオンスパッタリング装置

T/QGCML 018-2020 マイナスイオンエミッター

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 金イオンスパッタリング装置

GB/T 25755-2010 真空技術、スパッタイオンポンプ、性能パラメータの測定
GB/T 29658-2013 電子薄膜用高純度アルミニウムおよびアルミニウム合金スパッタリングターゲット
GB/T 36244-2018 誘導結合プラズマ発光分析装置
GB/T 41945-2022 誘導結合プラズマ発光分析装置（ICP-OES）を用いた生ゴムおよび加硫ゴム中の金属含有量の測定

RU-GOST R, 金イオンスパッタリング装置

GOST 5.1807-1973 GIN-0.5-1M イオンスパッタリングポンプ認定製品の品質要件
GOST 27973.2-1988 金ベルト誘起プラズマ発光分析法
GOST 5.413-1970 BP-150 動力粒状冷却ダイオード型イオンスパッタポンプ NMDO-01-01 (NORD-100) 認定製品の品質要件
GOST R 52371-2005 錫鉛バビット合金誘導結合プラズマ発光分光分析
GOST R ISO 22033-2014 ニッケル合金、ニオブの測定、誘導結合プラズマ/原子発光分析
GOST R ISO 22725-2014 ニッケル合金、タンタルの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法

American Society for Testing and Materials (ASTM), 金イオンスパッタリング装置

ASTM E1162-87(2001) 二次イオン質量分析法 (SIMS) でのスパッタ深さ断面データのレポート
ASTM E1162-87(1996) 二次イオン質量分析法 (SIMS) でのスパッタ深さ断面データのレポート
ASTM E1438-91(2001) 二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定
ASTM E1438-91(1996) 二次イオン質量分析法（SIMS）による界面形成スパッタリング深さの幅の測定
ASTM E1162-11(2019) 二次イオン質量分析法 (SIMS) でスパッタ深さプロファイルデータをレポートするための標準的な手法
ASTM E1162-06 二次イオン質量分析法 (SIMS) でスパッタ深さ断面データを報告するための標準的な手法
ASTM E1832-08 DC プラズマ原子発光分光計の説明と仕様に関する標準的な手法
ASTM E1832-08(2017) DC プラズマ原子発光分光計の説明と仕様に関する標準的な手法
ASTM E684-95(2000) 固体表面のスパッタリング深さプロファイリングのための大口径イオンビームの電流密度をおおよそ決定するための標準的な手法
ASTM E684-04 固体表面のスパッタリング深さプロファイリングのための大口径イオンビームの電流密度をおおよそ決定するための標準的な手法
ASTM E1479-16 誘導結合プラズマ原子発光分光計の説明と仕様に関する標準的な手法
ASTM F2113-01 電子薄膜用高純度金属スパッタリングターゲットの純度グレードおよび不純物含有量の分析および報告に関する標準ガイド
ASTM F2113-01(2007) 電子薄膜用高純度金属スパッタリングターゲットの純度グレードおよび不純物含有量の分析および報告に関する標準ガイド
ASTM UOP407-09 ドライアッシング法による有機物中の微量金属の定量誘導結合プラズマ発光分光分析装置 (ICP-OES)
ASTM F1467-99(2005)e1 マイクロ電子デバイスに対する電離放射線の影響をテストする際の X 線テスター (10 keV の放射線量子にほぼ等しい) の使用に関する標準ガイド

Professional Standard - Non-ferrous Metal, 金イオンスパッタリング装置

YS/T 1025-2015 電子薄膜用高純度タングステンおよびタングステン合金スパッタリングターゲット
YS/T 935-2013 電子薄膜用高純度金属スパッタリングターゲットの純度グレードおよび不純物含有量の分析および報告に関する標準ガイド

British Standards Institution (BSI), 金イオンスパッタリング装置

BS ISO 17109:2015 表面化学分析、深さプロファイリング、単層膜および多層膜を使用した、X 線光電子分光法、オージェ電子分光法、二次イオン質量分析法を使用したスパッタ深さプロファイリングにおけるスパッタリング率を決定する方法。
BS ISO 17109:2022 表面化学分析深さプロファイリング単層膜および多層膜の X 線光電子分光法、オージェ電子分光法、二次イオン質量分析法を使用したスパッタ深さ分析におけるスパッタリング率の決定方法...
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析の深さプロファイリング X 線光電子分光法、オージェ電子分光法、単イオンおよび二次イオン質量分析法を使用したスパッタ深さ分析におけるスパッタリング率の決定方法...
PD IEC/TS 62743:2012 放射線防護計装電離放射線のパルス場用の電子計数線量計
BS ISO 22415:2019 表面化学分析二次イオン質量分析分析アルゴンクラスタースパッタリングにおける収量の決定方法有機材料の深さプロファイリング
BS EN 15605:2010 銅および銅合金誘導結合プラズマ発光分析
BS ISO 22962:2008 チタンおよびチタン合金、鉄の測定、誘導結合プラズマ原子発光分析。

International Organization for Standardization (ISO), 金イオンスパッタリング装置

ISO 17109:2015 表面化学分析、深さプロファイリング、単層膜および多層膜を使用した、X 線光電子分光法、オージェ電子分光法、二次イオン質量分析法を使用したスパッタ深さプロファイリングにおけるスパッタリング率を決定する方法。
ISO 17109:2022 表面化学分析、深さプロファイリング、単層および多層膜を使用した X 線光電子分光法、オージェ電子分光法、および二次イオン質量分析法におけるスパッタリング率を決定する方法。
ISO 22415:2019 表面化学分析、二次イオン質量分析、有機材料のアルゴンクラスタースパッタリング深さプロファイルによる収量体積の決定方法。
ISO 22725:2007 ニッケル合金、タンタルの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法
ISO 22033:2005 ニッケル合金、ニオブの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法。
ISO 11435:2005 ニッケル合金、モリブデンの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法
ISO 22033:2011 ニッケル合金、ニオブの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法
ISO/TS 18223:2015 ニッケル合金、ニッケル含有量の測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法
ISO 22962:2008 チタンおよびチタン合金、鉄の測定、誘導結合プラズマ原子発光分析。
ISO 11435:2011 ニッケル合金、モリブデン含有量の測定、誘導結合プラズマ/原子発光分析

Professional Standard - Agriculture, 金イオンスパッタリング装置

JJG(教委) 015-1996 誘導結合プラズマ原子発光分析装置の校正手順

SE-SIS, 金イオンスパッタリング装置

SIS SS IEC 731:1988 電子医療機器。放射線治療用電離放射線室線量計

International Electrotechnical Commission (IEC), 金イオンスパッタリング装置

IEC TS 62743:2012 放射線防護機器、電離放射線のパルスフィールド用の電子計数放射線量計
IEC 45B/706/DTS:2011 IEC/TS 62743 (第 1 版): 放射線防護検出機器、電離放射線パルス場用の電子計数線量計

IEC - International Electrotechnical Commission, 金イオンスパッタリング装置

TS 62743-2012 放射線防護装置電離放射線パルスフィールド電子計数線量計（バージョン 1.0）

Society of Automotive Engineers (SAE), 金イオンスパッタリング装置

SAE AMS5791B-2004 プラズマジェット 56.5Co 25.5Cr 10.5Ni 7.5W コバルト合金粉末

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 金イオンスパッタリング装置

JIS H 1632-3:2014 チタン、ICP プラズマ発光分析装置、パート 3: ホウ素の測定
JIS H 1632-1:2014 チタン、ICP プラズマ発光分光計、パート 1: 一般要件とサンプルの分解

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 金イオンスパッタリング装置

KS D 1939-2003 亜鉛合金の化学分析誘導結合プラズマプラズマ発光分析
KS D 1674-2009 高純度金の誘導結合プラズマ発光分析
KS D ISO 22033:2006 ニッケル合金、ニオブの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法
KS D ISO 22962:2010 チタンおよびチタン合金、鉄の測定、誘導結合プラズマ原子発光分析。
KS D ISO 11435:2006 ニッケル合金、モリブデン含有量の測定、誘導結合プラズマ/原子発光分析
KS D ISO TS 18223:2018 ニッケル合金 - ニッケル含有量の測定 - 誘導結合プラズマ原子発光分析法
KS D ISO 22033:2021 ニッケル合金、ニオブの測定、誘導結合プラズマ/原子発光分析。

Standard Association of Australia （SAA）, 金イオンスパッタリング装置

AS 3515.4:2007 金および金を含む合金。金含有量の測定 (99.95% 以上)。誘導結合プラズマ。原子発光分析
AS 4479.4:1999 土壌分析誘導結合プラズマ発光分析法を使用した土壌の王水抽出物中の金属の定量

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会, 金イオンスパッタリング装置

GB/T 36764-2018 誘導結合プラズマ原子発光分析装置を使用したゴム配合沈降水和シリカを使用した重金属含有量の測定
GB/T 41064-2021 表面化学分析深さ方向プロファイリング単層膜および多層膜を使用した X 線光電子分光法、オージェ電子分光法および二次イオン質量分析法における深さ方向プロファイリングのスパッタリング率を決定する方法

Professional Standard - Aviation, 金イオンスパッタリング装置

HB 20094.2-2012 航空作動油中の摩耗金属含有量の検出その 2: 誘導結合プラズマ発光分光分析装置による検出方法

Association Francaise de Normalisation, 金イオンスパッタリング装置

NF A08-920:2008 ニッケル合金、チタンの測定、誘導結合プラズマ原子発光分析法。
NF ISO 23166:2019 ニッケル合金 - タンタルの測定 - 高周波プラズマ発光分析
NF A08-702*NF EN 15605:2010 誘導結合プラズマ発光分析による銅および銅合金の測定
NF EN 10361:2016 誘導プラズマ源発光分析による合金鋼中のニッケルの定量

European Committee for Standardization (CEN), 金イオンスパッタリング装置

EN 15605:2010 銅および銅合金誘導結合プラズマ発光分析

Danish Standards Foundation, 金イオンスパッタリング装置

DS/EN 15605:2010 銅および銅合金の誘導結合プラズマ発光分析

Lithuanian Standards Office , 金イオンスパッタリング装置

LST EN 15605-2010 銅および銅合金の誘導結合プラズマ発光分析

AENOR, 金イオンスパッタリング装置

UNE-EN 15605:2011 銅および銅合金の誘導結合プラズマ発光分析
UNE 38863:2012 誘導結合プラズマ発光分光法によるチタンおよびチタン合金鉄の定量

KR-KS, 金イオンスパッタリング装置

KS D ISO TS 18223-2018 ニッケル合金 - ニッケル含有量の測定 - 誘導結合プラズマ原子発光分析法
KS D ISO 22033-2021 ニッケル合金、ニオブの測定、誘導結合プラズマ/原子発光分析。