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金离子 溅射仪

本专题涉及金离子 溅射仪的标准有87条。

国际标准分类中,金离子 溅射仪涉及到真空技术、流体系统和通用件、人体保健器具、分析化学、有色金属产品、有色金属、半导体材料、珠宝、辐射防护、辐射测量、泵、航空航天制造用材料、光学和光学测量、橡胶、电学、磁学、电和磁的测量、橡胶和塑料用原料、土质、土壤学、电子元器件综合。

在中国标准分类中,金离子 溅射仪涉及到其他生产设备、真空技术与设备、、泵、光学计量仪器、稀有高熔点金属及其合金、轻金属及其合金、半金属与半导体材料综合、电化学、热化学、光学式分析仪器、化学助剂基础标准与通用方法、基础标准与通用方法、化学、辐射防护仪器、重金属及其合金、橡胶制品综合、重金属及其合金分析方法、电磁计量、炭黑、贵金属及其合金、航空与航天用非金属材料、轻金属及其合金分析方法、X射线、磁粉、荧光及其他探伤仪器、稀有金属及其合金分析方法、稀有轻金属及其合金。


行业标准-电子,关于金离子 溅射仪的标准

行业标准-机械,关于金离子 溅射仪的标准

德国标准化学会,关于金离子 溅射仪的标准

中国团体标准,关于金离子 溅射仪的标准

国家质检总局,关于金离子 溅射仪的标准

RU-GOST R,关于金离子 溅射仪的标准

美国材料与试验协会,关于金离子 溅射仪的标准

  • ASTM E1162-87(2001) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
  • ASTM E1162-87(1996) 二次离子质谱法(SIMS)中报告溅射深度截面数据
  • ASTM E1438-91(2001) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
  • ASTM E1438-91(1996) 用次级离子质谱法(SIMS)测量溅射深度成形界面的宽度
  • ASTM E1162-11(2019) 二次离子质谱法(SIMS)中溅射深度剖面数据报告的标准实施规程
  • ASTM E1162-06 报告次级离子质谱法(SIMS)中溅射深度截面数据的标准实施规程
  • ASTM E1832-08 描述和指定直流等离子体原子发射光谱仪的标准实践
  • ASTM E1832-08(2017) 描述和指定直流等离子体原子发射光谱仪的标准实践
  • ASTM E684-95(2000) 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
  • ASTM E684-04 固体表面溅射深度仿形加工用大直径离子束的电流密度近似测定的标准规程
  • ASTM E1479-16 描述和指定电感耦合等离子体原子发射光谱仪的标准实践
  • ASTM F2113-01 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
  • ASTM F2113-01(2007) 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南
  • ASTM UOP407-09 使用干灰化法测定有机物中的痕量金属.电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-OES)
  • ASTM F1467-99(2005)e1 微电子装置的电离辐射效应试验中 X 射线测试仪(近似等于10 keV 辐射量子)的使用的标准指南

行业标准-有色金属,关于金离子 溅射仪的标准

  • YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
  • YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南

英国标准学会,关于金离子 溅射仪的标准

  • BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
  • BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
  • 21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法
  • PD IEC/TS 62743:2012 辐射防护仪器仪表 用于电离辐射脉冲场的电子计数剂量计
  • BS ISO 22415:2019 表面化学分析 二次离子质谱分析 有机材料氩簇溅射深度剖析中产量体积的测定方法
  • BS EN 15605:2010 铜和铜合金.电感耦合等离子体发射光谱法
  • BS ISO 22962:2008 钛和钛合金.铁的测定.感应耦合等离子体原子发射光谱法

国际标准化组织,关于金离子 溅射仪的标准

  • ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
  • ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
  • ISO 22415:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.有机材料氩团簇溅射深度剖面测定屈服体积的方法
  • ISO 22725:2007 镍合金.钽测定.感应耦合等离子体原子发射光谱法
  • ISO 22033:2005 镍合金.铌的测定.感应耦合等离子体原子发射光谱法
  • ISO 11435:2005 镍合金.钼的测定.感应耦合等离子体原子发射光谱法
  • ISO 22033:2011 镍合金.铌的测定.电感耦合等离子体原子发射光谱法
  • ISO/TS 18223:2015 镍合金. 镍含量的测定. 感应耦合等离子体原子发射光谱法
  • ISO 22962:2008 钛和钛合金.铁的测定.感应耦合等离子体原子发射光谱法
  • ISO 11435:2011 镍合金.钼含量的测定.电感耦合等离子体/原子发射光谱法

行业标准-农业,关于金离子 溅射仪的标准

SE-SIS,关于金离子 溅射仪的标准

国际电工委员会,关于金离子 溅射仪的标准

  • IEC TS 62743:2012 辐射防护仪器.电离辐射的脉冲场用电子计数辐射剂量计
  • IEC 45B/706/DTS:2011 IEC/TS 62743(第一版):辐射防护检测仪表.电离辐射脉冲场用电子计数剂量计

IEC - International Electrotechnical Commission,关于金离子 溅射仪的标准

  • TS 62743-2012 辐射防护仪器 电离辐射脉冲场电子计数剂量计(1.0版)

日本工业标准调查会,关于金离子 溅射仪的标准

美国机动车工程师协会,关于金离子 溅射仪的标准

韩国科技标准局,关于金离子 溅射仪的标准

澳大利亚标准协会,关于金离子 溅射仪的标准

  • AS 3515.4:2007 金和含金合金.金含量测定(超过99.95%).感应耦合等离子体.原子发射光谱法
  • AS 4479.4:1999 土壤分析 使用电感藕合等离子体原子发射光谱仪对土壤中的王水淬取物中金属的测定

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会,关于金离子 溅射仪的标准

  • GB/T 36764-2018 橡胶配合剂 沉淀水合二氧化硅 电感耦合等离子体原子发射光谱仪测定重金属含量
  • GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法

行业标准-航空,关于金离子 溅射仪的标准

  • HB 20094.2-2012 航空工作液中磨损金属含量检测 第2部分:电感耦合等离子体原子发射光谱仪检测法

法国标准化协会,关于金离子 溅射仪的标准

欧洲标准化委员会,关于金离子 溅射仪的标准

  • EN 15605:2010 铜和铜合金.感应耦合等离子体发射光谱法

丹麦标准化协会,关于金离子 溅射仪的标准

立陶宛标准局,关于金离子 溅射仪的标准

AENOR,关于金离子 溅射仪的标准

  • UNE-EN 15605:2011 铜和铜合金 电感耦合等离子体发射光谱法
  • UNE 38863:2012 钛及钛合金 铁的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

KR-KS,关于金离子 溅射仪的标准





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