ASTM E2245-05
用光学干涉仪测量反射薄膜残余应力的标准试验方法

Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer

被代替

ASTM E2245-05 发布历史

ASTM E2245-05由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2005。

ASTM E2245-05 在中国标准分类中归属于: N50 物质成份分析仪器与环境监测仪器综合。

ASTM E2245-05的历代版本如下：

• 2018年 ASTM E2245-11(2018) 使用光学干涉仪的薄的反射膜的残余应变测量的标准测试方法
• 2011年 ASTM E2245-11e1 采用光学干涉仪测量反射薄膜残余应变的标准试验方法
• 2011年 ASTM E2245-11 利用光学干涉仪测量反射膜残余应变的标准试验方法
• 2005年 ASTM E2245-05 用光学干涉仪测量反射薄膜残余应力的标准试验方法
• 2002年 ASTM E2245-02 用光学干涉仪测量反射薄膜残余应力的标准试验方法

残余应变测量有助于 MEMS 器件的设计和制造。残余应变值用于杨氏模量计算。

1.1 该测试方法涵盖了测量薄膜中压缩残余应变的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用干涉仪对其进行成像。不接受接触底层的固定光束的测量。

1.2 本测试方法使用非接触式光学干涉仪，能够获取地形 3-D 数据集。它是在实验室中进行的。

1.3 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任在使用前建立适当的安全和健康实践并确定监管限制的适用性。

标准号

ASTM E2245-05

发布

2005年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM E2245-11

当前最新

ASTM E2245-11(2018)

 

 

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