ASTM E2245-05
用光学干涉仪测量反射薄膜残余应力的标准试验方法

Standard Test Method for Residual Strain Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer


哪些标准引用了ASTM E2245-05

 

ASTM F2603-06(2020) 聚合组织支架图像解释的标准指南ASTM E2246-11(2018) 使用光学干涉仪的薄的反射膜的应变梯度测量的标准测试方法ASTM E2244-11(2018) 使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法ASTM E2444-11(2018) 标准术语 涉及对薄膜 反射膜的测量ASTM E2246-11e1 采用光学干涉仪测量反射薄膜应变梯度的标准试验方法ASTM E2244-11e1 采用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法ASTM E2444-11e1 与反射薄膜上测量的相关术语ASTM F2603-06(2012) 聚合组织支架图解释用标准指南
标准号
ASTM E2245-05
发布
2005年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E2245-11
当前最新
ASTM E2245-11(2018)
 
 
残余应变测量有助于 MEMS 器件的设计和制造。残余应变值用于杨氏模量计算。1.1 该测试方法涵盖了测量薄膜中压缩残余应变的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用干涉仪对其进行成像。不接受接触底层的固定光束的测量。1.2 本测试方法使用非接触式光学干涉仪，能够获取地形 3-D 数据集。它是在实验室中进行的。1.3 本标准并...

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ASTM E2245-05 中可能用到的仪器设备

白光干涉测厚仪 薄膜应力测试仪

谁引用了ASTM E2245-05 更多引用

ASTM F2603-06(2020) 聚合组织支架图像解释的标准指南 ASTM E2246-11(2018) 使用光学干涉仪的薄的反射膜的应变梯度测量的标准测试方法 ASTM E2244-11(2018) 使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法 ASTM E2444-11(2018) 标准术语 涉及对薄膜 反射膜的测量 ASTM E2246-11e1 采用光学干涉仪测量反射薄膜应变梯度的标准试验方法 ASTM E2244-11e1 采用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法 ASTM E2444-11e1 与反射薄膜上测量的相关术语 ASTM F2603-06(2012) 聚合组织支架图解释用标准指南


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