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针对 莎姆克RIE-200iP ICP Plasma Etching Systems (ICP-RIE)高密度等离子刻蚀机 产品的讨论(最新的40个讨论)
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莎姆克电子束刻蚀, 莎姆克的RIE-200iP是专为研发及半量产目的设计的搬送室型设备。它备有莎姆克的专利龙卷风ICP电极,可产生稳定及高密度的等离子体,并达到高选择比、高精确度和优秀的均匀度。另外,RIE-200iP也具有莎姆克独创的多方排气系统可供应稳定均匀的气体至晶片。
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