检测技术学习篇ICP-MS检测半导体级样品注意事项
ICP-MS可适用于ppt级的元素和亚ppt级的元素剖析，因而常用于半导体行业，剖析超痕量的杂质。如下引见主要的影响要素。
仪器运转环境
ICP-MS在干净室内运用，其前级真空泵最好放置在干净室外部，只将仪器主机放置在干净室。用于冷却仪器的空气从外流到内，并从上部的排风管排出，使灰尘粒子被控制在最小值。干净室的干净度常用空气只微粒子来表示。1000级表示直径＞0.5μm的粒子≤1000个/立方英尺。普通大气中为100万级。为保证10～1级的干净度，干净室内部的空气流通尽量采用高架回风，是室内的空气能够向下流通。配置样品和规范溶液时需在100级以下的通风橱内停止，普通此类通风橱会在顶部再增加一级过滤FFU，以此来保证作业过程中的干净度。
样品引入系统/接口
为防止污染，必需特别留意样品引入系统的选择和清洁。用于检测半导体样品的样品引入系统、接口于其他样品检测不同，相关配置如下。
雾化器，爬动泵管有时会形成极微量污染，停止超微量检测是适用于自吸进样。自吸进样时，雾化器运用同心雾化器、穿插雾化器或微流雾化器。
接口，普通ICP-MS7700S有两种接口（Ni、Pt），都能够用于半导体样品检测。运用Ni锥接口时，Ni的背景检出限为50ppt左右。而Pt锥接口能够对很多酸有耐受性，合适超纯酸的检测。
某些元素具有记忆效应，这些元素的氧化物易留在接口上，如Ca、Al、Si、U、Th和稀土元素等。这些记忆效应能够经过在2%的硝酸中浸泡去除。但是，有时需求沾有氧化铝悬浊液的棉签停止擦拭去除。
样品引入系统/接口的清洗
假如长时间在空气中放置可能会有污染，所以运用前用超纯水充沛清洗。另外，清洗时必需戴手套。
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