T/CASAS 010-2019
氮化镓材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法

Determination of Trace Impurities Concentration and Distribution in GaN Materials by Secondary Ion Mass Spectrometry


T/CASAS 010-2019 中,可能用到以下仪器设备

 

SBC-12小型离子溅射仪

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北京中科科仪技术发展有限责任公司

 

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MP517钠离子浓度计

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BRIGHT  KAS-2000F 离子溅射仪

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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200手套箱专用

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北京中科科仪技术发展有限责任公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

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北京中科科仪技术发展有限责任公司

 

英国QUORUM Q150T新型触摸屏高真空一体化溅射镀膜仪

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HK-358系列钠离子监测仪

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HK-358EL多通道钠离子监测仪

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T/CASAS 010-2019

标准号
T/CASAS 010-2019
发布
2019年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CASAS 010-2019
 
 
半导体材料中的痕量杂质元素浓度及其分布高精度表征是影响产业链不同阶段产品(如衬底、外延、芯片、器件)性能的重要参数。二次离子质谱仪是检测材料痕量杂质元素浓度及分布的最常用且最精准的设备。目前我国以二次离子质谱方法高精度检测第三代半导体材料中的痕量杂质浓度及分布的标准属于空白领域,因此该标准的制定对第三代半导体材料的特征参数评价及产业应用具有较强的积极作用。

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