T/CASAS 010-2019
氮化镓材料中痕量杂质浓度及分布的二次离子质谱检测方法

Determination of Trace Impurities Concentration and Distribution in GaN Materials by Secondary Ion Mass Spectrometry


T/CASAS 010-2019 中,可能用到以下仪器

 

麦奇克拜尔BELMASS II在线质谱仪

麦奇克拜尔BELMASS II在线质谱仪

大昌华嘉科学仪器

 

BELMASS II麦奇克拜尔在线质谱仪

BELMASS II麦奇克拜尔在线质谱仪

大昌华嘉科学仪器

 

重金属离子痕量检测系统

重金属离子痕量检测系统

北京谱飞科技有限公司

 

SBC-12小型离子溅射仪

SBC-12小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪

GVC-1000小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

离子溅射仪 SBC-12中科科仪 应用于电子/半导体

离子溅射仪 SBC-12中科科仪 应用于电子/半导体

北京中科科仪股份有限公司

 

SBC-12小型中科科仪 SBC-12 SBC-12小型

SBC-12小型中科科仪 SBC-12 SBC-12小型

北京中科科仪股份有限公司

 

离子溅射仪 SBC-12中科科仪 应用于纳米材料

离子溅射仪 SBC-12中科科仪 应用于纳米材料

北京中科科仪股份有限公司

 

 SBC-12中科科仪SBC-12小型 样本

SBC-12中科科仪SBC-12小型 样本

北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200手套箱专用

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200手套箱专用

北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪

GVC-1000小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪

GVC-1000小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪

GVC-1000小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪

GVC-1000小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪

GVC-1000小型离子溅射仪

北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪用于微电子领域

GVC-1000小型离子溅射仪用于微电子领域

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪用于机械加工行业

GVC-1000小型离子溅射仪用于机械加工行业

北京中科科仪股份有限公司

 

GVC-1000小型离子溅射仪用于光学领域

GVC-1000小型离子溅射仪用于光学领域

北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200用于装饰领域

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200用于装饰领域

北京中科科仪股份有限公司

 

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000用于靶材

全自动磁控离子溅射仪 GVC-2000用于靶材

北京中科科仪股份有限公司

 

T/CASAS 010-2019

标准号
T/CASAS 010-2019
发布
2019年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CASAS 010-2019
 
 
半导体材料中的痕量杂质元素浓度及其分布高精度表征是影响产业链不同阶段产品(如衬底、外延、芯片、器件)性能的重要参数。二次离子质谱仪是检测材料痕量杂质元素浓度及分布的最常用且最精准的设备。目前我国以二次离子质谱方法高精度检测第三代半导体材料中的痕量杂质浓度及分布的标准属于空白领域,因此该标准的制定对第三代半导体材料的特征参数评价及产业应用具有较强的积极作用。

T/CASAS 010-2019相似标准


推荐


T/CASAS 010-2019 中可能用到的仪器设备





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号