T/ZZB 0648-2018
200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片

200 mm heavily phosphorus-doped single crystalline Czochralski silicon polished wafers


T/ZZB 0648-2018 中,可能用到以下仪器设备

 

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TRILOS 三辊机TR120A

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GPX系列研磨抛光机

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CSS200磨抛机

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Chiron 300D金相磨抛机

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Chiron 300DA智能全自动金相磨抛机

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Chiron 250D金相磨抛机

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Chiron 250DA智能全自动金相磨抛机

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北京欧波同光学仪器有限公司/欧波同/OPTON

 

瑞绅葆RBM-II型金属磨样机

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瑞绅葆分析技术(上海)有限公司

 

UNIPOL-1210金相研磨抛光机

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UNIPOL-830金相研磨抛光机

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UNIPOL-810精密研磨抛光机

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沈阳科晶/KJ GROUP

 

UNIPOL-300小型精密研磨抛光机

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UNIPOL-1200Z振动抛光机

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Axon Axoclamp 900A膜片钳微电极放大器系统

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T/ZZB 0648-2018

标准号
T/ZZB 0648-2018
发布
2018年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/ZZB 0648-2018
 
 
本标准规定了200 mm重掺磷直拉硅单晶抛光片的术语和定义、产品分类、基本要求、技术要求、试验方法、检验规则、包装、标志、运输和贮存、订货单(或合同)内容和质量承诺。 本标准适用于以电子级多晶硅为主要原材料,采用直拉法制备的直径为200 mm的硅单晶抛光片。产品主要用于集成电路、分立器件用外延片的衬底。

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