DIN 50455-1-1991
半导体工艺材料的检验.表示光致抗蚀剂特性的方法.第1部分:用光学测量法对涂层厚度的测定

Testing of materials for semiconductor technology; methods for characterizing photoresists; determination of coating thickness with optical methods


DIN 50455-1-1991 发布历史

The standard defines a method which allows the characterization of photoresists by determining the coating thickness.

DIN 50455-1-1991由德国标准化学会 DE-DIN 发布于 1991-06,于 2009-10 废止。

DIN 50455-1-1991 在中国标准分类中归属于: H82 元素半导体材料,在国际标准分类中归属于: 29.045 半导体材料。

DIN 50455-1-1991的历代版本如下:

  • 1991年06月 DIN 50455-1-1991 半导体工艺材料的检验.表示光致抗蚀剂特性的方法.第1部分:用光学测量法对涂层厚度的测定
  • 2009年10月 DIN 50455-1-2009 半导体技术用材料的试验.表征光阻剂方法.第1部分:涂层厚度的光学法测定

 

 

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标准号
DIN 50455-1-1991
发布日期
1991年06月
实施日期
废止日期
2009-10
中国标准分类号
H82
国际标准分类号
29.045
发布单位
DE-DIN
代替标准
DIN 50455-1-2009
适用范围
The standard defines a method which allows the characterization of photoresists by determining the coating thickness.

DIN 50455-1-1991系列标准





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