第三种是目前芯片最主要的光刻方式,也是本文主要介绍的光刻方式——光学投影式光刻,它也是目前能实现的精度与效率最好的光刻手段。和直写光刻的打印过程不同,光学投影式光刻就像是复印,掩模版上的图案经过光学系统投影后被缩小,再曝光到硅片上,就能实现最小纳米级的雕刻工艺。但是光学投影式光刻机问题是结构复杂,价格昂贵。光刻机种类(图片来源:科普中国)如何实现更精确的光刻呢?...
通过这种方式,构造出的结构通过手指或测量仪器无法感受到。二、电子/离子束刻蚀2012年8月,美国哈佛大学的Federico Capasso及其同事设计使用光刻技术电子束从一个60纳米厚的硅片上蚀刻出一种平的超材料镜头,该镜头使用金的超材料二维阵列。在制造过程中,通过选定超材料阵列特殊的形状和间隔,物理学家能使选定波长的光精确地到达一个焦点。该超材料镜头可用于智能手机内置相机中。...
(3)光学测量法 包括光学投影测量纤维直径、液体分散法测量单根纤维直径以及气流分散法测量单根纤维直径等。 (4)单根纤维振动法 测试单根纤维的线密度(dtex),是国际化学纤维标准化局(BISFA)推荐的测试方法。 ...
测径仪大至分激光扫描测径仪,CCD投影测径仪,激光衍射测径仪,其中前两者都属光学的几何原理,后者为利用光学的波动原理。...
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