ASTM E2244-11e1
采用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法

Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer


ASTM E2244-11e1 中,可能用到以下仪器

 

F54 薄膜厚度测量仪

F54 薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

F10-HC 薄膜厚度测量仪

F10-HC 薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

F10-AR 薄膜厚度测量仪

F10-AR 薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

F20 薄膜厚度测量仪

F20 薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

F60-t 薄膜厚度测量仪

F60-t 薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

F54-XY-200薄膜厚度测量仪

F54-XY-200薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

F54-XYT-300薄膜厚度测量仪

F54-XYT-300薄膜厚度测量仪

优尼康科技有限公司

 

ASTM E2244-11e1

标准号
ASTM E2244-11e1
发布
2011年
发布单位
美国材料与试验协会
替代标准
ASTM E2244-11(2018)
当前最新
ASTM E2244-11(2018)
 
 
引用标准
ASTM E2245 ASTM E2246 ASTM E2444 ASTM E2530
1.1 该测试方法涵盖了测量图案化薄膜的面内长度(包括偏转)的程序。它仅适用于薄膜,例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜,可以使用光学干涉仪(也称为干涉显微镜)对其进行成像。 1.2 还有其他方法可以确定平面内长度。使用设计尺寸通常比使用光学干涉显微镜测量提供更精确的面内长度值。 (干涉测量通常比使用光学显微镜进行的测量更精...

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