硅片光谱

本专题涉及硅片光谱的标准有8条。

国际标准分类中，硅片光谱涉及到分析化学、金属材料试验、半导体材料。

在中国标准分类中，硅片光谱涉及到基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法、半金属与半导体材料综合。

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于硅片光谱的标准

• GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

国家质检总局，关于硅片光谱的标准

• GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
• GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
• GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

英国标准学会，关于硅片光谱的标准

• BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
• BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
• BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定

国际标准化组织，关于硅片光谱的标准

• ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定

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