表面 物质

本专题涉及表面 物质的标准有73条。

国际标准分类中,表面 物质涉及到分析化学、制药学、空气质量、环境试验、建筑材料、表面处理和镀涂、建筑物中的设施、化工产品、涂料涂覆工艺、纺织产品、钢铁产品、塑料、长度和角度测量、粒度分析、筛分、家具、辐射测量、医疗设备。

在中国标准分类中,表面 物质涉及到基础标准与通用方法、电子光学与其他物理光学仪器、污染物排放综合、供水、排水器材设备、化学、屋面、铺面防水与防潮材料、合成树脂、塑料基础标准与通用方法、塑料构配件、航空与航天用非金属材料、计量综合、表面活性剂基础标准与通用方法、日用搪瓷制品、辐射防护仪器。


中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会,关于表面 物质的标准

  • GB/T 34174-2017 表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序

国家质检总局,关于表面 物质的标准

  • GB/T 25186-2010 表面化学分析.二次离子质谱.由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
  • GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
  • GB/T 20176-2006 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
  • GB/T 20175-2006 表面化学分析.溅射深度剖析.用层状膜系为参考物质的优化方法

国际标准化组织,关于表面 物质的标准

  • ISO 18114:2021 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 离子注入参考物质的相对敏感性因子的测定
  • ISO 14606-2015 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
  • ISO 17331-2004/Amd 1-2010 表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
  • ISO 14237-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
  • ISO 17331 AMD 1-2010 表面化学分析.硅晶片加工标准物质表面元素收集用化学方法和及其光分析仪(TXRF)光谱学测定.修改件1
  • ISO/TR 16268:2009 表面化学分析——离子注入生产的工作标准物质中残留areic剂量的拟议认证程序
  • ISO 23812:2009 表面化学分析——二次离子质谱法——使用多δ层标准物质的硅深度校准方法
  • ISO 17331:2004 表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
  • ISO 20341:2003 表面化学分析——二次离子质谱法——利用多delta层标准物质估算深度分辨率参数的方法
  • ISO 18114:2003 表面化学分析——二次离子质谱法——离子注入标准物质相对灵敏度因子的测定
  • ISO 14606-2000 表面化学分析 溅射深度剖析 用层状膜系为参考物质的优化方法
  • ISO 14237-2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

美国材料与试验协会,关于表面 物质的标准

  • ASTM E3230-20 从用于生物制药制造的一次性组件和组件表面提取颗粒物质的标准实施规程
  • ASTM C1486-2000 检验耐化学物质和泥浆扩散的树脂整体地板表面的标准操作规程
  • ASTM C1486-2000(2012) 检验耐化学物质和泥浆扩散的树脂整体地板表面的标准实施规程
  • ASTM C1486-2000(2008) 检验耐化学物质和泥浆扩散的树脂整体地板表面的标准实施规程
  • ASTM D4251-1989(2009) 用电势滴定法测定阴离子表面活化剂中活性物质的标准试验方法

欧洲标准化委员会,关于表面 物质的标准

法国标准化协会,关于表面 物质的标准

  • NF D14-507-2012 卫生设备.搪瓷表面耐热碱物质作用的性能.一般试验方法
  • NF X21-070-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.
  • NF X21-066-2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
  • NF X21-067-2009 表面化学分析.高分辨率俄歇(Auger)电子分光计.元素及化学物质状态分析用能量标度的校准
  • NF X21-062-2008 表面化学分析.溅射深度剖析.层状膜系作为参考物质的优化方法
  • NF D14-507-1985 卫生设备.搪瓷表面耐热碱物质作用的性能.一般试验方法

英国标准学会,关于表面 物质的标准

  • BS ISO 14237-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
  • BS ISO 14237-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
  • BS ISO 23812-2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
  • BS ISO 23812-2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
  • BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
  • BS 4359-1-1996 粉末比表面积的测定.第1部分:气体表面吸附(BET)推荐方法(包括多孔物质)

,关于表面 物质的标准

日本工业标准调查会,关于表面 物质的标准

  • JIS K0146-2002 表面化学分析.溅镀深度造型.利用分层系统作为标准物质的优选法

欧洲航空工业协会,关于表面 物质的标准

德国标准化学会,关于表面 物质的标准

  • DIN EN ISO 308-1998 塑料.酚醛树脂模塑材料.丙酮可溶物质的测定(未模塑材料的表面树脂含量)

台湾地方标准,关于表面 物质的标准

澳大利亚标准协会,关于表面 物质的标准

  • AS 2836.7-1998 外科敷料和外科敷料材料的测试方法.表面活性物质水平的测定方法
  • AS 2836.7-1998 外科敷料和外科敷料材料的测试方法.表面活性物质水平的测定方法
  • AS ISO 14606-2006 表面化学分析.溅射深度剖析.用层状膜系为参考物质的优化方法
  • AS ISO 17974-2006 表面化学分析.高分辨率俄歇电子分光计法.元素及化学物质状态分析用能量标度校准
  • AS ISO 17974-2006 表面化学分析.高分辨率俄歇电子分光计法.元素及化学物质状态分析用能量标度校准
  • AS ISO 14606-2006 表面化学分析.溅射深度剖析.用层状膜系为参考物质的优化方法

表面 物质物质 表面吸附 表面 物质表层 物质表面 物理物体 表面物理 表面表面 物品表面 表 表表 表面表面 表物 产品 表面聚 表面值 物质镀 表面物质 人水 物质表面 表面 球表面 谱壳 物质

 

可能用到的仪器设备

 

PXSJ-216F型离子计

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上海仪电科学仪器股份有限公司(原上海精科雷磁)

 

PXSJ-226T型离子计

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PXBJ-287L型便携式离子计

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PXBJ-286F型便携式离子计

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上海仪电科学仪器股份有限公司(原上海精科雷磁)

 

PXSJ-270F型离子计

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上海仪电科学仪器股份有限公司(原上海精科雷磁)

 

 




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