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표면 기기 표면 분석

모두 500항목의 표면 기기 표면 분석와 관련된 표준이 있다.

국제 분류에서 표면 기기 표면 분석와 관련된 분류는 다음과 같습니다: 화학 장비, 분석 화학, 어휘, 길이 및 각도 측정, 음향 및 음향 측정, 광학 및 광학 측정, 도로 공사, 전기 장치, 건물 내 시설, 항공우주 제조 관련 도금 및 관련 프로세스, 조선 및 해양 구조물 통합, 정보 기술 응용, 베어링, 시험, 설탕, 설탕제품, 전분, 태양광 공학, 화학 제품, 전자 디스플레이 장치, 기르다, 방사선 측정, 반도체 개별 장치, 계측 및 측정 합성, 전기 및 전자 테스트, 방사선방호, 전기, 자기, 전기 및 자기 측정, 유리, IT 단말기 및 기타 주변기기, 열역학 및 온도 측정, 산업자동화 시스템, 환경 테스트, 진공 기술, 야금 장비, 표면 처리 및 도금, 스포츠 장비 및 시설, 담배, 담배 제품 및 담배 산업 장비, 공작기계 장비, 비파괴 검사, 원자력공학, 건축 자재, 분말 야금, 품질.


Defense Logistics Agency, 표면 기기 표면 분석

Group Standards of the People's Republic of China, 표면 기기 표면 분석

Professional Standard - Chemical Industry, 표면 기기 표면 분석

Korean Agency for Technology and Standards (KATS), 표면 기기 표면 분석

International Federation of Trucks and Engines, 표면 기기 표면 분석

KR-KS, 표면 기기 표면 분석

General Administration of Quality Supervision, Inspection and Quarantine of the People‘s Republic of China, 표면 기기 표면 분석

  • GB/T 13592-1992 표면 분석 용어
  • GB/T 22461-2008 표면 화학 분석.
  • GB/T 25187-2010 표면 화학 분석 오제 전자 분광법 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
  • GB/T 21007-2007 표면 화학 분석 정보 형식
  • GB/T 28894-2012 표면 화학 분석 - 분석 전 샘플 준비
  • GB/T 28892-2012 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수의 표현
  • GB/T 19499-2004 표면화학 분석 데이터 전송 형식
  • GB/T 29732-2013 표면 화학 분석을 위한 중해상도 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 스케일 교정
  • GB/T 22571-2008 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 척도 교정
  • GB/T 29557-2013 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 깊이 측정
  • GB/T 15222-1994 표면 오염 판정 2부 삼중수소 표면 오염
  • GB/T 14056.2-2011 표면 오염 측정 2부: 삼중수소 표면 오염
  • GB/T 30704-2014 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
  • GB/T 29731-2013 표면 화학 분석 고해상도 오거 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 스케일 교정
  • GB/T 8997-2008 알파 및 베타 표면 오염 측정 장비 및 모니터 교정
  • GB 5202-1985 알파, 베타, 알파-베타 표면 오염 측정기 및 모니터
  • GB/T 21006-2007 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
  • GB/T 42360-2023 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분광 분석
  • GB/T 30815-2014 표면 화학 분석을 위한 분석 샘플 준비 및 설정 가이드
  • GB/T 19146-2010 적외선 인체 표면 온도 급속 검사 장비
  • GB/Z 32494-2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 화학 정보 해석
  • GB 9290-1988 계면활성제 산업용 에톡실화 지방아민 분석 방법
  • GB/T 9290-2008 계면활성제, 산업용 에톡실화 지방 아민, 분석 방법
  • GB/T 19502-2004 표면 화학 분석 - 글로우 방전 방출 분광법의 일반 원리
  • GB/T 19502-2023 표면 화학 분석을 위한 글로우 방전 방출 분광법에 대한 일반 규칙

International Organization for Standardization (ISO), 표면 기기 표면 분석

  • ISO/CD 20289:2017 표면 화학 분석
  • ISO/CD 20579-2:2023 표면 화학 분석
  • ISO/CD 24237:2023 표면 화학 분석
  • ISO 18118:2022 표면 화학 분석
  • ISO/DIS 20579-2:2024 표면 화학 분석
  • ISO/CD 13473-4 표면 프로파일을 이용한 포장 구조 특성 분석 4부: 표면 프로파일의 스펙트럼 분석
  • ISO 15472:2010 표면 화학 분석.X선 광전자 분광계.에너지 스케일 교정
  • ISO 15472:2001 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 에너지 스케일 교정
  • ISO 18115:2001 표면 화학 분석 용어집
  • ISO/TS 13473-4:2008 표면 외관 포장 구조의 특성 4부: 표면 프로파일의 스펙트럼 분석
  • ISO/DIS 13473-4 표면 프로파일을 이용한 포장 구조 특성 분석 4부: 표면 프로파일의 1/3 옥타브 스펙트럼 분석
  • ISO 18117:2009 표면 화학 분석, 시료 처리 전 분석
  • ISO 14975:2000 표면 화학 분석 정보 형식
  • ISO/TR 14187:2020 표면 화학 분석 - 나노구조 재료의 특성화
  • ISO 18337:2015 표면 화학 분석, 표면 특성화, 공초점 형광 현미경을 통한 측면 분해능 측정
  • ISO/DIS 17973:2023 표면 화학 분석에서 원소 분석 에너지 분해능 수준의 교정 오거 전자 분광계
  • ISO 18115:2001/Amd 1:2006 표면 화학 분석 어휘 수정 1
  • ISO 18115:2001/Amd 2:2007 표면화학분석 어휘 수정 2
  • ISO 14976:1998 표면화학 분석 데이터 전송 형식
  • ISO 17331:2004/Amd 1:2010 표면 화학 분석 화학적 방법 및 광학 분석기(TXRF) 분광 측정을 사용하여 실리콘 웨이퍼 처리 표준 재료 표면 요소 수집 수정 1
  • ISO 24465:2023 표면 화학 분석 - 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 가능성 결정
  • ISO 18115-3:2022 표면 화학 분석 용어집 3부: 광학 인터페이스 분석에 사용되는 용어.
  • ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 - 깊이 분석 - 스퍼터링 깊이 측정
  • ISO/CD 17973 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정
  • ISO 7503-2:1988 표면 오염 평가 파트 2: 삼중수소 표면 오염
  • ISO 10810:2019 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광학 분석 가이드
  • ISO 20289:2018 표면 화학 분석 - 물의 전반사 X선 형광 분석
  • ISO/PAS 13473-6:2021 표면 프로파일을 사용한 포장 구조 특성화 6부: 포장 구조 측정을 위한 레이저 프로파일러 성능 검증
  • ISO 17973:2016 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • ISO 17973:2002 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • ISO 18116:2005 표면 화학 분석 - 분석용 시편 준비 및 조립 지침
  • ISO 10810:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 분석 지침
  • ISO 25178-1:2016 기하학적 제품 사양(GPS) 표면 구조: 평면 1부: 표면 구조 표현
  • ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 기기 성능 매개변수 설명
  • ISO/TR 14187:2011 표면 화학 분석, 나노 구조 물질의 특성 분석
  • ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 척도의 선형성
  • ISO/TR 22335:2007 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 속도 측정: 기계식 광학 스타일러스 프로파일로미터를 사용한 메쉬 복제 방법.
  • ISO 15471:2004 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • ISO 15471:2016 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • ISO 25178-6:2010 제품의 기하학적 규격(GPS) 표면 질감: 표면 6부: 표면 질감 측정 방법 분류
  • ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 설명 스퍼터 깊이 측정
  • ISO/TS 15338:2020 표면 화학 분석 - 글로우 방전 질량 분석법 - 작동 절차
  • ISO 893:1978 계면활성제 산업용 알칸술폰산나트륨의 분석방법
  • ISO 893:1989 계면활성제 산업용 알칸 설폰산염에 대한 분석 방법
  • ISO 15470:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • ISO 12406:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 실리콘 내 비소의 깊이 프로파일링
  • ISO 14706:2000 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
  • ISO 14706:2014 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용한 실리콘 웨이퍼의 기본 표면 오염 확인
  • ISO 25178-2:2012 기하학적 제품 사양(GPS) 표면 질감: 표면 2부: 용어, 정의 및 표면 질감 매개변수
  • ISO 13473-3:2002 표면 외관 포장 구조물의 특성 3부: 프로파일로미터의 사양 및 분류
  • ISO 894:1977 계면활성제 산업용 1차 알킬황산나트륨 분석방법
  • ISO 895:1977 계면활성제 산업용 2차 알킬황산나트륨 분석방법
  • ISO 17974:2002 표면 화학 분석 고해상도 나선형 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • ISO 13424:2013 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광법, 박막 분석 결과 보고
  • ISO 13084:2011 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석기 비행 시간 2차 이온 질량 분석기에 대한 질량 스케일 교정
  • ISO/TR 29901:2007/cor 1:2009 4가지 요인에 대한 종합적인 요인 테스트를 위해 선택된 차트 기술 정오표 1
  • ISO 22048:2004 표면 화학 분석 - 정적 2차 이온 질량분석법 정보 형식
  • ISO 6384:1981 계면활성제 산업용 에톡실화 지방아민 분석 방법
  • ISO 456:1973 계면활성제 비누 분석 유리 가성 알칼리 측정
  • ISO 4287-1:1984 표면 거칠기 용어 1부: 표면 및 해당 매개변수 세 가지 언어 버전

AT-ON, 표면 기기 표면 분석

RO-ASRO, 표면 기기 표면 분석

  • STAS 11195-1987 표면제 분석 방법
  • SR 110-9-1995 설탕. 분석 방법. 표면 품질 결정
  • STAS SR CEI 776-1983 로직 분석기 성능
  • STAS 5730/4-1987 표면 상태. 스타일러스 기구를 이용한 표면 거칠기 측정 방법
  • STAS ISO 1879:1993 프로파일법을 이용하여 표면 거칠기를 측정하는 장비입니다. 어휘
  • STAS SR ISO 7503-2:1996 표면 오염 평가. 2부: 삼중수소 표면 오염
  • STAS SR ISO 3274:1995 프로파일 장비는 표면 거칠기를 측정하는 장비입니다. 윤곽 시퀀스 변환 기능이 있는 접촉식(스타일러스) 유형 기기입니다. 접촉면 측정기 시스템 M

Japanese Industrial Standards Committee (JISC), 표면 기기 표면 분석

  • JIS B 0651:1996 표면 질감 표면 질감 평가를 위한 도구 단면 방법
  • JIS K 0147:2004 표면 화학 분석.
  • JIS K 0142:2000 표면 화학 분석 정보 형식
  • JIS K 0141:2000 표면 화학 분석 - 데이터 전송 형식
  • JIS B 0681-6:2014 기하학적 제품 사양(GPS) 표면 질감: 표면 6부: 표면 질감 측정 방법 분류
  • JIS K 0181:2021 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석
  • JIS K 0154:2017 표면 화학 분석 분석용 시료 준비 및 설치 지침
  • JIS K 0165:2011 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • JIS B 0660:1998 표면 거칠기 용어 1부: 표면 및 해당 매개변수
  • JIS K 0161:2010 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • JIS B 0681-1:2023 제품 기하학적 사양(GPS) 표면 질감: 영역 파트 1: 표면 질감 표시
  • JIS K 0164:2023 실리콘 내 붕소의 깊이 분석을 위한 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석 방법
  • JIS K 0162:2010 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • JIS K 0148:2005 표면 화학 분석 TXRF(전반사 X선 형광) 측정을 사용하여 실리콘 웨이퍼의 주요 표면 오염 물질을 측정합니다.
  • JIS K 0166:2011 표면 화학 분석 고해상도 나선형 전자 분광계 원소 및 화학 상태 분석을 위한 에너지 척도 교정

YU-JUS, 표면 기기 표면 분석

German Institute for Standardization, 표면 기기 표면 분석

  • DIN ISO/TS 13473-4:2009-02 표면 프로파일을 이용한 포장 질감 특성 분석 4부: 표면 프로파일의 스펙트럼 분석
  • DIN ISO/TS 13473-4:2009 표면 프로파일을 사용한 포장 구조의 특성 분석 4부: 표면 프로파일의 스펙트럼 분석
  • DIN VDE 0603-2-1:2017 계기판 2-1부: 최대 63A의 직접 측정을 위한 계기판
  • DIN VDE 0603-3-3 Berichtigung 1:2021 계기판 파트 3-3: 계기용 터미널 커넥터, 정오표 1
  • DIN ISO 13473-3:2004-07 표면 프로파일을 이용한 포장 질감 특성 분석 3부: 프로파일로미터의 사양 및 분류
  • DIN ISO 13473-3:2004 표면 외관에 따른 포장 구조의 특성 분석 3부: 프로파일로미터의 사양 및 분류
  • DIN 43700:1982 측정 및 제어 계기판에 장착된 측정 및 제어 장비 공칭 패널 전면 및 단면 치수
  • DIN VDE 0603-3-2:2017 계기판 3-2부 : 가정용 전기 계량기 설치 연결
  • DIN EN 61098:2008 방사선 방호 장비 고정된 개인 표면 오염 모니터링 장치
  • DIN ISO 13473-2:2004 표면외관을 이용한 포장구조물의 특성화 제2부: 포장구조물의 외관해석에 관한 용어 및 기본요구사항
  • DIN ISO 13473-2:2004-07 표면 프로파일을 이용한 포장 질감 특성화 2부: 포장 질감 프로파일 분석과 관련된 용어 및 기본 요구 사항
  • DIN ISO 15472:2020-05 표면 화학 분석 - X선 광전자 분광계 - 에너지 스케일 교정(ISO 15472:2010)
  • DIN EN 14670:2005 계면활성제, 라우릴황산나트륨, 분석 방법
  • DIN EN 61725:1998-03 일일 태양 프로필에 대한 분석 표현(IEC 61725:1997)
  • DIN 28400-6:1980-10 진공 기술, 용어 및 정의, 표면 분석 기술
  • DIN EN 61207-6:1995 가스 분석기의 성능 표현 6부: 광도 분석기
  • DIN 43870 Bb.1:1986 장비 장착 패널 작동 표면에 대한 정보
  • DIN EN 61207-6:2016-03 가스 분석기의 성능 표현 6부: 광도 분석기
  • DIN EN IEC 61207-3:2020-12 가스 분석기 성능 표현 3부: 상자성 산소 분석기
  • DIN 68861-8:2001-04 가구 표면 파트 8: 습기 및 열 동작
  • DIN EN 14670:2005-09 계면활성제 라우릴황산나트륨의 분석방법
  • DIN 28400-6:1980 진공 기술 - 표면 분석 기술의 용어 및 정의
  • DIN EN ISO 25178-1:2016-12 기하학적 제품 사양(GPS) 표면 질감: 영역 파트 1: 표면 질감 표시
  • DIN ISO 15472:2020 표면 화학 분석을 위한 X선 광전자 분광계의 에너지 표준 교정(ISO 15472:2010), 영어 텍스트
  • DIN EN 15330-2:2017 주로 실외 사용을 위해 설계된 스포츠 표면용 인조 잔디 및 니들펀치 표면 2부: 테니스 및 멀티 스포츠 표면용 니들펀치 표면 사양
  • DIN 6094-13:1997-05 포장 - 표면 준비 - 13부: 2개의 나사 표면 준비 및 3개의 나사 나사 표면 준비
  • DIN EN ISO 25178-6:2010-06 기하학적 제품 사양(GPS) - 표면 질감: 영역 - 6부: 표면 질감 측정 방법 분류
  • DIN EN 15647:2009-04 계면활성제 분말 분산에 대한 계면활성제 효과 측정
  • DIN EN ISO 13473-1:2004 포장 구조를 특성화하기 위해 표면 모양 사용 1부: 평균 단면 높이 결정
  • DIN EN 15647:2009 분말 내 계면활성제의 분산 효과 확인
  • DIN CEN/TS 15901-2:2010-03*DIN SPEC 1142:2010-03 도로 및 공항 표면 특성 - 2부: 종방향 제어 스키드 장치(LFCRNL)를 사용하여 포장 도로의 미끄럼 저항을 결정하는 절차: ROAR(Norsemeter 도로 분석기 및 레코더)
  • DIN CEN/TS 15901-5:2010-03*DIN SPEC 1145:2010-03 도로 및 공항 표면 특성 - 5부: 종방향 제어 스키드 장치(LFCRDK)를 사용하여 포장 도로의 미끄럼 저항을 결정하는 절차: ROAR(Norsemeter 도로 분석기 및 레코더)
  • DIN 6094-3:2003-10 포장종류 표면처리 3편 : 레버스토퍼 표면처리

Association Francaise de Normalisation, 표면 기기 표면 분석

Standard Association of Australia (SAA), 표면 기기 표면 분석

British Standards Institution (BSI), 표면 기기 표면 분석

  • BS ISO 13424:2013 표면 화학 분석.X선 분광학.박막 분석 보고서
  • BS EN IEC 61207-3:2019 가스 분석기 성능 상자성 산소 분석기
  • BS ISO 14975:2000 표면 화학 분석 정보 형식
  • BS ISO 14975:2001 표면 화학 분석 정보 형식
  • PD ISO/TR 14187:2020 나노구조 물질의 특성화를 위한 표면 화학 분석
  • DD ISO/TS 13473-4:2008 포장 질감 질감 프로필을 특성화하기 위해 표면 프로필을 사용한 스펙트럼 분석
  • BS ISO 18117:2009 표면 화학 분석 - 분석 전 샘플 준비
  • BS ISO 18115-3:2022 표면 화학 분석 용어집 광학 인터페이스 분석에 사용되는 용어
  • BS DD ISO/TS 13473-4:2008 표면 프로파일을 이용한 포장 구조의 특성화 구조 프로파일의 스펙트럼 분석
  • BS ISO 18337:2015 표면 화학 분석, 표면 특성화, 공초점 형광 현미경을 통한 측면 분해능 측정
  • BS ISO 14976:1998 표면 화학 분석 - 데이터 전송 형식
  • BS EN 61725:1997 일일 태양 프로필에 대한 분석 표현
  • DD ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터링 깊이 측정
  • BS DD ISO/TR 15969:2001 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터 깊이 측정
  • BS PD ISO/TR 15969:2021 스퍼터 깊이의 표면 화학 분석 깊이 프로파일 측정
  • BS ISO 24465:2023 표면 화학 분석을 위한 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 능력 결정
  • BS ISO 17973:2016 표면 화학 분석에서 분해능 오거 전자 분광계의 원소 분석을 위한 에너지 규모 교정
  • BS EN 61207-6:2015 가스 분석기 성능 광도 분석기의 표현
  • BS ISO 18115-1:2010 표면 화학 분석, 용어집, 일반 용어 및 분광학 용어
  • BS ISO 18115-1:2013 표면 화학 분석, 용어집, 일반 용어 및 분광학 용어
  • BS ISO 11039:2012 표면 화학 분석 스캐닝 프로브 현미경 드리프트 속도 결정
  • BS ISO 20289:2018 표면 화학 분석 물의 전반사 X선 형광 분석
  • PD ISO/TS 15338:2020 표면화학분석 글로우방전 질량분석법 분석 운용과정
  • BS ISO 10810:2019 표면 화학 분석 X선 광전자 분광법 가이드
  • BS ISO 17973:2003 표면 화학 분석 중간 해상도 나선형 전자 분광계 원소 분석을 위한 에너지 척도 교정
  • BS ISO 15471:2016 표면 화학 분석을 위한 Auger 전자 분광법을 위해 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • 21/30404376 DC BS ISO 24465. 표면 화학 분석. 표면 플라즈몬 공명 장치의 최소 검출 능력 결정
  • PD ISO/TR 15969:2021 표면 화학 분석 깊이 프로파일링 스퍼터 깊이 측정
  • BS ISO 13473-3:2002 표면 프로파일링 포장 재료의 표면 구조 특성화 프로파일로미터의 사양 및 분류
  • BS ISO 10810:2010 표면 화학 분석, X선 광전자 분광학, 분석 가이드
  • BS ISO 18116:2005 표면 화학 분석 - 분석용 시편 준비 및 조립 지침
  • PD ISO/PAS 13473-6:2021 포장 질감을 특성화하기 위해 표면 프로파일을 사용하여 포장 질감 측정을 위한 레이저 프로파일로미터의 성능 검증
  • 21/30385921 DC BS ISO 18115-3 표면 화학 분석 용어집 3부. 광학 인터페이스 분석에 사용되는 용어
  • BS ISO 15471:2005 표면 화학 분석 오제 전자 분광학 선택된 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 21270:2004 표면 화학 분석 X선 광전자 분광계 및 Auger 전자 분광계 강도 규모 선형성
  • BS EN 14670:2005 계면활성제, 라우릴황산나트륨, 분석 방법
  • BS ISO 15470:2005 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 15470:2017 표면 화학 분석 X선 광전자 분광학 선택한 기기 성능 매개변수에 대한 설명
  • BS ISO 13084:2018 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 분석 Time-of-Flight 2차 이온 질량 분석법 질량 스케일 교정
  • BS ISO 17862:2022 표면 화학 분석 2차 이온 질량분석기 분석 단일 이온 계수 비행 시간 질량 분석기의 강도 스케일링 선형성
  • BS EN 1370:1997 주조.표면 거칠기를 확인하는 시각적 비교기
  • BS ISO 12406:2010 표면 화학 분석 2차 이온 질량 분석법 실리콘 내 비소의 깊이 프로파일링
  • BS DD ISO/TS 25138:2011 표면 화학 분석 글로우 방전 방출 분광법을 이용한 금속 산화막 분석
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