71.040.40 化学分析 标准查询与下载
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本标准确定了采用带火焰光度检测器(FPD)的气相色谱仪测定煤基合成气中硫化氢、羰基硫、甲硫醇、甲硫醚的方法提要、试剂和材料、仪器、采样、测定步骤、结果计算、精密度、试验报告。 本标准适用于煤基合成气中硫化氢浓度不低于0.08 mg/m、羰基硫浓度不低于0.12 mg/m、甲硫醇浓度不低于0.08 mg/m、甲硫醚浓度不低于0.07 mg/m的测定。
Determination of hydrogen sulfide carbonyl sulfide methanethiol and dimethyl sulfide in coal-based syngas—Gas chromatograph
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-30
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
GB/T5832 的本部分规定了采用露点法测定气体中微量水分的方法。 本部分适用于氢、氧、氮、氦、氖、氩、氪、氙、氧化亚氮等气体及其混合气体中微量水分的测定。 不适用于在水分冷凝前就冷凝的气体以及能与水分发生反应的气体。 本部分适用于0 ℃~-100 ℃ 气体露点的测定。
Gas analysis—Determination of water—Part 2: Dew point method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
本标准规定了用配备硫化学发光检测器的气相色谱仪测定气体中硫化物及总硫的方法。 本标准适用于工业气体、天然气、液化天然气、液化石油气、焦炉煤气、食品级二氧化碳气、空气、汽车尾气、生物质气、煤制合成天然气等气体中硫化物及总硫的测定。 硫化物的测定范围：0.1 mg/m~1 000 mg/m。 含烃类的气体中总硫的测定范围：0.5 mg/m~1 000 mg/m，不含烃类的气体中总硫的测定范围：0.1 mg/m～1 000 mg/m。 对硫化物及总硫含量高于此范围的气体，可经稀释后测定。
Gas analysis—Determination of sulfide—Gas chromatography with sulfur chemiluminescence
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
本标准规定了采用辉光放电质谱(GD-MS)法测量多晶硅中杂质元素的测试方法。 本标准适用于多晶硅材料中除氢和惰性气体元素以外的其他杂质元素含量的测定，测量范围是本方法的检出限至0.1%(质量分数)，检出限根据所用仪器及测量条件确定。通过合适的标准样品校正，也可以测量质量分数大于0.1%的杂质元素含量。单晶硅材料中痕量杂质元素也可参照本标准测量。
Polycrystalline silicon—Determination of trace elements—Glow discharge mass spectrometry method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-11-01 00:00:00.0
本标准规定了测定化工产品中砷的通用方法。 本标准中的二乙基二硫代氨基甲酸银光度法适用于砷含量在1 μg~20 μg范围内的溶液测定，原子荧光光度法适用于砷含量在0.005 μg~2.5 μg范围内的溶液测定。
General method for determination of arsenic content of chemical products
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
GB/T5832 的本部分规定了采用电解法测定气体中微量水分的方法,描述了方法原理,对仪器、仪器校准、测定事项、精密度、结果处理、试验报告等提出了要求。 本部分适用于氮、氦、氖、氩、氪、氙、二氧化碳以及其他不与五氧化二磷发生除吸湿以外的各种反应的气体中微量水分的测定,测定范围:0.1×10-6 ~1000×10-6(体积分数)。
Gas analysis—Determination of water—Part 1: Electrolytic method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
本标准规定了采用电化学法测定气体中微量氧的方法，包括燃料电池法、赫兹电池法、氧化锆浓差电池法、离子流法、原电池法等，对仪器、校准、试验步骤、结果处理和试验报吿等提出了要求。 本标准适用于不与化学电池发生化学反应且不干扰测定的气体。测定范围：0.01×10(体积分数)~1 000×10(体积分数)。
Determination of trace oxygen in gases—Electrochemical method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-12-13
- 实施
- 2017-07-01 00:00:00.0
本标准规定了在电子激发绝缘样品的俄歇电子能谱测量中，描述荷电控制方法所需的最少信息，该信息也一并报告在分析结果中。参见附录A提供的现有的AES分析前或分析期间荷电控制的有用方法。表A.1对各种方法和途径进行了总结，并依方法的简单性排列。表A.1中的一些方法对大多数仪器是可用的，一部分则需要特殊的硬件，还有部分可能涉及样品的重装或变动。
Surface chemical analysis—Auger electron spectroscopy—Reporting of methods used for charge control and charge correction
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-10-13
- 实施
- 2017-09-01 00:00:00.0
本标准规定了利用俄歇电子能谱(AES)和X射线光电子能谱(XPS)测定深度剖析离子溅射速率的方法，试样的离子溅射面积范围为0.4 mm~3.0 mm。本标准只适用于横向均匀的休相材料或单层材料，其离子溅射速率由溅射深度与溅射时间确定，溅射深度通过机械探针轮廓仪测得。 本标准提供了一种将深度剖析中的离子溅射时间转换为溅射深度的方法，并假设溅射速率恒定。 本方法不是为扫描探针显微系统设计的，因此不能用扫描探针显微系统评价该方法。本方法不适用于溅射面积小于0.4 mm的情况，也不适用于溅射诱导的表面粗糙度与被测区域的溅射深度相比较明显的情况。
Surface chemical analysis—Depth profiling—Measurement of sputtering rate: mesh-replica method using a mechanical stylus profilometer
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-10-13
- 实施
- 2017-09-01 00:00:00.0
Surface chemical analysis—General procedures for quantitative compositional depth profiling by glow discharge optical emission spectrometry
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-10-13
- 实施
- 2017-09-01 00:00:00.0
本标准规定了利用辉光放电发射光谱测定金属氧化物膜厚度、单位面积质量和金属氧化物膜化学组成的方法。 本方法适用于测定金属上厚度为1 nm~10 000 nm的氧化物膜，氧化物的金属元素包括铁、铬、镍、铜、钛、硅、钼、锌、镁、锰和铝中的一种或多种。其他可测元素还包括氧、碳、氮、氢、磷和硫。
Surface chemical analysis—Analysis of metal oxide films by glow-discharge optical emission spectrometry
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-10-13
- 实施
- 2017-09-01 00:00:00.0
Surface chemical analysis—Recording and reporting data in Auger electron spectroscopy (AES)
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-02-24
- 实施
- 2017-01-01 00:00:00.0
本标准详细规定了用扇形磁场或四极杆式二次离子质谱仪对硅中砷进行深度剖析的方法，以及用触针式轮廓仪或光学干涉仪深度定标的方法。本标准适用于砷原子浓度范围从1 × 10 atoms/cm~2.5 × 10 atoms/cm的单晶硅、多晶硅、非晶硅样品，坑深在50 nm及以上。
Surface chemical analysis.Secondary-ion mass spectrometry.Method for depth profiling of arsenic in silicon
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G04
- 发布
- 2016-02-24
- 实施
- 2017-01-01
本标准规定了循环冷却水中总有机碳(TOC)的测定方法：在线TOC仪测定法及仪器分析法。 本标准适用于循环冷却水中含量在0.1 mg/L～1 000 mg/L总有机碳的分析，也适用于地表水、地面水、回用水中总有机碳的测定。
Determination of total organic carbon (TOC) in industrial circulating cooling water
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G76
- 发布
- 2015-10-09
- 实施
- 2016-05-01
本标准规定了再生水中化学需氧量的测定方法。本标准适用于再生水中化学需氧量(COD)的测定,测定范围为5 mg/L~100 mg/L(以O计)。
Determination of chemical oxygen demand of reclaimed wastewater.Potassium dichromate method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G76
- 发布
- 2014-12-05
- 实施
- 2015-05-01
GB/T 5275的本部分是利用动态体积法制备校准用混合气体的系列国家标准的一部分。本部分规定了使用一种或多种易冷凝的组分连续制备校准用混合气体的方法。通过对相对标准不确定度贡献的合成,得到本方法的相对扩展不确定度不大于1%(扩展因子k=2)。与该系列的其他部分不同,本部分所描述的方法不需要精确测量流速,因为在计算体积分数的公式中没有流量参数。对于易冷凝和气相部分易发生表面吸附的气体组分,使用静态法很难制备浓度精确稳定的校准混合气。而且,这种校准用混合气体的压力不能接近饱和蒸气压,否则会发生冷凝。饱和蒸气压法就可以用来制备这类混合气体。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 9:Saturation method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
GB/T 5275的本部分规定了从纯气或其他混合气体通过注射器向平衡气中连续注入校准组分,从而连续制备含两种或多种组分的校准用混合气体的方法。使用预混气体代替纯气(参见附录A)可制备体积分数很低的混合气体。体积流量决定体积分数,可通过单个气体的流量计算得到,也可采用ISO 6145-1给出的适当方法独立测量。连续注射法的优点是可连续制备大量混合气体,并且只要使用适当数目的注射器或单只注射器内含有已知的多组分混合气体,就可像制备二元混合气体一样方便地制备多组分混合气体。该方法还可通过很少的步骤,便捷地增高校准组分在混合气体中的体积分数。因此,也可用于评估气体分析仪的一些其他特性,如最低检出限、盲区以及精确度。该方法制备的二元混合气体(包含因子k=2)相对扩展不确定度为5%,适用范围为10~10(体积分数)。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 4:Continuous syringe injection method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
GB/T 5275的本部分规定了通过用电化学法生成校准组分并将其引入载气流制备校准混合气体的方法。通过改变气体流量或改变通过电解池的电荷即可改变混合气体的组成。校准混合气体含量的相对扩展不确定度U由相对合成标准不确定度乘以包含因子k=2得到,其值不大于5%。本部分规定的制备方法多用于制备体积分数范围在0.1×10250× 10之间的校准用混合气体。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 11:Electrochemical generation
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
GB/T 5275的本部分规定了用容积泵连续产生校准用混合气的方法,该方法通过多活塞容积泵、用纯气或混合气制备含两种或多种组分的校准用混合气体。这种泵可用于制备平衡气中气相组分的体积分数范围在0.1%以上的混合气体,测量的相对扩展不确定度U由相对合成不确定度乘以包含因子k=2得出,其值不超过0.5%。多个容积泵串联运行可获得更低浓度的混合气体。两个容积泵的串联组可制备的最低浓度为10。而且采用预混气代替纯气制备混合气体,还可得到更低浓度的混合气体,其结果及不确定度计算参见附录A。此方法的优点是可连续制备大量混合气体,且可制备多组分混合气体。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 2:Volumetric pumps
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
本部分规定了通过扩散法制备摩尔分数在10~10范围内的校准用混合气体的动态法。本方法的相对扩展不确定度U,其值不超过±2%,由合成标准不确定度乘以包含因子(k=2)得到。若扩散源和使用位置间的管路很短,则扩散法可用于制备沸点在40 ℃~160 ℃范围内的室温下为液态有机组分的低浓度校准用混合气体。本部分规定的扩散法,不仅适用于制备与大气环境和室内空气中浓度相当的多种烃类的校准用混合气体,也适用于制备低浓度的水混合气体。
Gas analysis.Preparation of calibration gas mixtures using dynamic volumetric methods.Part 8:Diffusion method
- ICS
- 71.040.40
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-07-08
- 实施
- 2014-12-01
