ASTM F3166-16
硅通孔(TSV)金属化用高纯钛溅射靶的标准规范

Standard Specification for High-Purity Titanium Sputtering Target Used for Through-Silicon Vias (TSV) Metallization


说明:

  • 此图仅显示与当前标准最近的5级引用;
  • 鼠标放置在图上可以看到标题编号;
  • 此图可以通过鼠标滚轮放大或者缩小;
  • 表示标准的节点,可以拖动;
  • 绿色表示标准:ASTM F3166-16 , 绿色、红色表示本平台存在此标准,您可以下载或者购买,灰色表示平台不存在此标准;
  • 箭头终点方向的标准引用了起点方向的标准。
ASTM F3166-16

标准号
ASTM F3166-16
发布
2016年
发布单位
美国材料与试验协会
当前最新
ASTM F3166-16
 
 
引用标准
ASTM B209 ASTM B248 ASTM E1001 ASTM E112 ASTM F1512 ASTM F1709 ASTM F1710
1.1 本规范详细说明了先进封装中用作硅通孔(TSV)金属化薄膜材料的高纯钛溅射靶材的通用标准要求。 1.2 本规范中包含溅射靶纯度、晶粒尺寸、内部质量、结合、尺寸和外观规格以及鉴定测试方法的参考。可靠性、认证、可追溯性和包装要求也包括在内。 1.2.1 纯度要求:  1.2.1.1 金属元素杂质,和1...

推荐





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号