ASTM E2244-11
使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法

Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer

被代替

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标准号

ASTM E2244-11

发布

2011年

发布单位

美国材料与试验协会

替代标准

ASTM E2244-11e1

当前最新

ASTM E2244-11(2018)

 

 

面内长度测量用于参数计算，例如残余应变和杨氏模量。特定测试结构需要进行面内偏转测量。包括残余应变在内的参数是根据这些面内偏转测量来计算的。1.1 本测试方法涵盖了测量图案化薄膜的面内长度（包括偏转）的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用光学干涉仪对其进行成像。1.2 还有其他方法可以确定面内长度。使用设计尺寸通常比使用光...

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