GB/T 24578-2015
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy

GBT24578-2015, GB24578-2015


 

 

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标准号
GB/T 24578-2015
别名
GBT24578-2015
GB24578-2015
发布
2015年
发布单位
国家质检总局
当前最新
GB/T 24578-2015
 
 
引用标准
GB 50073-2013 GB/T 14264
被代替标准
GB/T 24578-2009
本标准规定了使用全反射X光荧光光谱,定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片(以下称硅片),尤其适用于硅片清洗后自然氧化层,或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定,测定范围为109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2

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