GB/T 24578-2015
硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
Test method for measuring surface metal contamination on silicon wafers by total reflection X-Ray fluorescence spectroscopy
GBT24578-2015, GB24578-2015
GB/T 24578-2015 中，可能用到以下仪器设备
- 标准号
- GB/T 24578-2015
- 别名
- GBT24578-2015
GB24578-2015 - 发布
- 2015年
- 发布单位
- 国家质检总局
- 当前最新
- GB/T 24578-2015
- 引用标准
- GB 50073-2013 GB/T 14264
- 被代替标准
- GB/T 24578-2009
- 本标准规定了使用全反射X光荧光光谱，定量测定硅抛光衬底表面层的元素面密度的方法。本标准适用于硅单晶抛光片、外延片（以下称硅片），尤其适用于硅片清洗后自然氧化层，或经化学方法生长的氧化层中沾污元素面密度的测定，测定范围为109 atoms/cm2~1015 atoms/cm2
GB/T 24578-2015相似标准
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