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全反射x射线光谱
本专题涉及全反射x射线光谱的标准有12条。
国际标准分类中，全反射x射线光谱涉及到分析化学。
在中国标准分类中，全反射x射线光谱涉及到基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法。
国家质检总局，关于全反射x射线光谱的标准
- GB/T 42360-2023 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析
- GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于全反射x射线光谱的标准
- GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
英国标准学会，关于全反射x射线光谱的标准
- PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 全反射 X 射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
- BS PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 14706:2001 表面化学分析 采用全反射X射线荧光（TXRF）光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
韩国科技标准局，关于全反射x射线光谱的标准
- KS D ISO 14706:2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
国际标准化组织，关于全反射x射线光谱的标准
- ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
