全反射x射线荧
本专题涉及全反射x射线荧的标准有18条。
国际标准分类中，全反射x射线荧涉及到分析化学。
在中国标准分类中，全反射x射线荧涉及到基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于全反射x射线荧的标准
- GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
国家质检总局，关于全反射x射线荧的标准
- GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
英国标准学会，关于全反射x射线荧的标准
- BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
- BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
- BS ISO 14706-2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
国际标准化组织，关于全反射x射线荧的标准
- ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 - 全反射X射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
- ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
- ISO 14706:2014 表面化学分析 - 通过全反射X射线荧光（TXRF）光谱测定硅晶片上的表面元素污染
- ISO 17331-2004/Amd 1-2010 表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
- ISO 17331:2004 表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
- ISO 17331-2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
德国标准化学会，关于全反射x射线荧的标准
- DIN 51003-2004 全反射X-射线荧光.总则和定义
韩国标准，关于全反射x射线荧的标准
- KS D ISO 14706-2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
- KS D ISO 14706-2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
，关于全反射x射线荧的标准
- KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化学分析-全反射X-射线荧光分析仪测定硅片表面元素杂质
