71.100.20 工业气体 标准查询与下载
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Technical guideline for methane preparation from coke oven gas
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-11-01
- 实施
- 2018-05-01 00:00:00.0
Regulation for filling of cylinder bundle
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-10-14
- 实施
- 2018-05-01 00:00:00.0
Safety test methods for onboard low pressure hydrogen storage devices for small fuel cell vehicles
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-10-14
- 实施
- 2018-05-01 00:00:00.0
Rules for filling of gas mixture cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-10-14
- 实施
- 2018-05-01 00:00:00.0
Safety rules for handling, loading and unloading, storing and using of cylinder
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-10-14
- 实施
- 2018-05-01 00:00:00.0
Technical guideline for methanol preparation from carbon dioxide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical code for safety of methane preparation from coke oven gas
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical code for safety of methanol preparation from carbon dioxide
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Technical code for safety of formic acid preparation from yellow phosphorus tail gas
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-09-07
- 实施
- 2018-04-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Hexafluoroethane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-07-31
- 实施
- 2017-11-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Trifluoromethane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-07-31
- 实施
- 2017-11-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Propylene
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-05-31
- 实施
- 2017-12-01 00:00:00.0
Gas for electronic industry—Silane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2017-05-31
- 实施
- 2017-12-01 00:00:00.0
Pure methane and high pure methane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2016-10-13
- 实施
- 2017-05-01
本标准规定了六氟化钨的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于化学合成法制取并经精制纯化的六氟化钨。该产品主要用于电子工业中金属钨化学气相沉积工艺、钨材料的制备等。 分子式：WF。 分子量：297.830 419 2(按2009年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Tungsten hexaflouride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2015-12-31
- 实施
- 2016-07-01
本标准规定了八氟丙烷的技术要求、试验方法、包装、标志、贮运和安全。 本标准适用于六氟丙烯或七氟丙烷氟化制备，并通过精馏、吸附、催化等工艺提纯的八氟丙烷产品，以及碳和氟直接反应法合成的八氟丙烷产品。它在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或清洗气体。 分子式：CF。 相对分子质量：188.017（按2011年国际相对原子质量）。
Gas for electronic industry.Perfluoropropane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2015-09-11
- 实施
- 2016-05-01
本标准规定了锗烷的技术要求、试验方法、标志、包装、贮运和安全。 本标准适用于氯化锗还原、电解氧化锗的硫酸溶液、锗镁合金与盐酸反应等方法得到的锗烷产品。 它用于化学试剂、制取高纯度锗、化学气相淀积、扩散、非晶硅、外延、离子注入等领域。 分子式：GeH。 相对分子质量：76.662（按2011年国际相对原子质量计算）。
Gas for electronic industry.Germane
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2015-09-11
- 实施
- 2016-05-01
本标准规定了六氟化硫的技术要求、试验方法、标志、包装、贮存及安全等。 本标准适用于硫与氟直接反应并经精制和纯化制备的六氟化硫”该产品主要用作电子工业中化学气相沉积室的清洗剂和等离子蚀刻剂等。 分子式=SFs”相对分子质量j4皂O跚4192〔按2007 年国际相对原子质量计算)。
Gases for electronic industry.Sulphur hexaflouride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-12-22
- 实施
- 2015-07-01
本标准规定了四氟化硅的技术要求、试验方法、标志、包装、运输和贮存等内容。本标准适用于萤石硫酸法、六氟硅酸盐热分解法、单质硅直接氟化法制备的四氟化硅。它主要用作电子工业中等离子蚀刻、发光二极管P形掺杂、离子注入工艺、外延沉积扩散的硅源和光导纤维用高纯石英玻璃的原料,也是生产多晶硅的重要原料。分子式:SiF。相对分子质量:104.0786128(按2009年国际原子相对质量)。
Gases for electronic industry.Silicon tetrafluoride
- ICS
- 71.100.20
- CCS
- G86
- 发布
- 2014-12-22
- 实施
- 2015-07-01
