ASTM E2244-11(2018)
使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法
Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer
ASTM E2244-11(2018) 发布历史
ASTM E2244-11(2018)由美国材料与试验协会 US-ASTM 发布于 2018-05-01。
ASTM E2244-11(2018)在国际标准分类中归属于: 37.040.20 相纸、胶卷和暗盒。
ASTM E2244-11(2018) 发布之时，引用了标准
- ASTM E2245 采用光学干涉仪测量反射薄膜残余应变的标准试验方法*， 2023-07-08 更新
- ASTM E2246 采用光学干涉仪测量反射薄膜应变梯度的标准试验方法*， 2023-07-08 更新
- ASTM E2444 与反射薄膜上测量的相关术语*， 2023-07-08 更新
- ASTM E2530 用Si(111)单原子层级对原子力显微镜进行次纳米位移级的Z倍率校准的标准规程*， 2023-07-08 更新
* 在 ASTM E2244-11(2018) 发布之后有更新，请注意新发布标准的变化。
ASTM E2244-11(2018)的历代版本如下：
- 2018年 ASTM E2244-11(2018) 使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法
- 2011年 ASTM E2244-11e1 采用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法
- 2011年 ASTM E2244-11 使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法
- 2005年 ASTM E2244-05 使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法
- 2002年 ASTM E2244-02 用光学干涉仪测量反射薄膜共面长度的标准试验方法
1.1 本测试方法涵盖了测量图案化薄膜面内长度（包括偏转）的程序。它仅适用于薄膜，例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜，可以使用光学干涉仪（也称为干涉显微镜）对其进行成像。
1.2 还有其他方法可以确定平面内长度。使用设计尺寸通常比使用光学干涉显微镜测量提供更精确的面内长度值。 （干涉测量通常比使用光学显微镜进行的测量更精确。）该测试方法适用于当干涉测量优于使用设计尺寸时（例如，测量面内偏转时以及在未经证实的情况下测量长度时）。制作工艺）。
1.3 本测试方法使用非接触式光学干涉显微镜，能够获取地形 3-D 数据集。它是在实验室进行的。
1.4 测量的最大面内长度由干涉显微镜在最低放大倍率下的最大视场确定。测量的最小偏转由干涉显微镜在最高放大倍率下的像素间距决定。
1.5 本标准并不旨在解决与其使用相关的所有安全问题（如果有）。本标准的使用者有责任建立适当的安全、健康和环境实践，并在使用前确定监管限制的适用性。
1.6 本国际标准是根据世界贸易组织贸易技术壁垒（TBT）委员会发布的《关于制定国际标准、指南和建议的原则的决定》中确立的国际公认的标准化原则制定的。
- 标准号
- ASTM E2244-11(2018)
- 发布
- 2018年
- 发布单位
- 美国材料与试验协会
- 当前最新
- ASTM E2244-11(2018)
- 引用标准
- ASTM E2245 ASTM E2246 ASTM E2444 ASTM E2530
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