T/CNIA 0118-2021
电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法

Determination of trace impurity elements in high-purity hydrofluoric acid for the electronics industry by inductively coupled plasma mass spectrometry


 

 

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标准号
T/CNIA 0118-2021
发布
2021年
发布单位
中国团体标准
当前最新
T/CNIA 0118-2021
 
 
适用范围
本文件规定了电感耦合等离子体质谱法测定电子工业用高纯氢氟酸中杂质元素（铝、锑、砷、钡、硼、镉、钙、铬、铜、铁、铅、锂、镁、锰、镍、钾、钠、锡、钛、钒、锌）含量的方法。 本文件适用于电子工业用高纯氢氟酸中痕量杂质元素含量的测定，测定范围为0.001μg/kg～10.000μg/kg。标准工作曲线法适用于各痕量杂质元素含量＞0.100μg/kg；标准加入法适用于各痕量杂质元素含量≤0.100μg/kg。

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