ASTM E2244-11(2018)
使用光学干涉仪测量薄膜 反射膜的面内长度的标准测试方法

Standard Test Method for In-Plane Length Measurements of Thin, Reflecting Films Using an Optical Interferometer


ASTM E2244-11(2018) 中,可能用到以下仪器设备

 

NanoCalc薄膜反射光谱仪系统

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海洋光学亚洲公司

 

F10-HC 薄膜厚度测量仪

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优尼康科技有限公司

 

F10-AR 薄膜厚度测量仪

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优尼康科技有限公司

 

F54 薄膜厚度测量仪

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F20 薄膜厚度测量仪

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F50 光学膜厚测量仪

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优尼康科技有限公司

 

ASTM E2244-11(2018)

标准号
ASTM E2244-11(2018)
发布
2018年
发布单位
美国材料与试验协会
当前最新
ASTM E2244-11(2018)
 
 
引用标准
ASTM E2245 ASTM E2246 ASTM E2444 ASTM E2530
1.1 本测试方法涵盖了测量图案化薄膜面内长度(包括偏转)的程序。它仅适用于薄膜,例如微机电系统 (MEMS) 材料中的薄膜,可以使用光学干涉仪(也称为干涉显微镜)对其进行成像。 1.2 还有其他方法可以确定平面内长度。使用设计尺寸通常比使用光学干涉显微镜测量提供更精确的面内长度值。 (干涉测量通常比使用光学显微镜进行的测量更精确。)该测试方法适用于当干涉测...

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