非常快速的定位测试的点并测量膜层厚度,基本上所有的光滑的非金属薄膜均可测量。应用:半导体制造(光刻胶、氧化物/氮化物/SOI、晶圆背面研磨);LCD 液晶显示器(聚酰亚胺、ITO 透明导电膜);光学镀膜(硬涂层、抗反射层);MEMS 微机电系统(光刻胶、硅系膜层)。 R50四探针电阻率测量仪Filmetrics R50 系列提供接触式四点探针 (4PP) 和非接触式涡流 (EC)测量。...
R50四探针电阻率测量仪Filmetrics R50 系列提供接触式四点探针 (4PP) 和非接触式涡流 (EC)测量。1 点/秒的速度映射导电膜的电阻率/电导率。电动 X-Y 载物台使用标准晶片吸盘定制样品架,可测量 300mm 的样品,或200mm 的面积。...
R50四探针电阻率测量仪Filmetrics R50 系列提供接触式四点探针 (4PP) 和非接触式涡流 (EC)测量。 1 点/秒的速度映射导电膜的电阻率/电导率。电动 X-Y 载物台使用标准晶片吸盘定制样品架,可测量 300mm 的样品,或200mm 的面积。...
研磨指通过研磨的方法,除去切片和轮磨所造成的硅片表面锯痕及表面的损伤层,有效改善单晶硅片的翘曲度、平坦度与平行度,达到一个抛光过程可以处理的规格。硅片研磨质量直接影响到抛光质量及抛光工序的整体效率,甚至影响到IC的性能。...
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