GB/T 29505-2013
硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法

Test method for measuring surface roughness on planar surfaces of silicon wafer


GB/T 29505-2013 中,可能用到以下仪器

 

光学滤光片

光学滤光片

北京欧普特科技有限公司-仪器销售部

 

OLS4500纳米检测显微镜

OLS4500纳米检测显微镜

岛津企业管理(中国)有限公司/岛津(香港)有限公司

 

光学轮廓仪WIVS-I

光学轮廓仪WIVS-I

上海纳腾仪器有限公司

 

GB/T 29505-2013



标准号
GB/T 29505-2013
发布日期
2013年05月09日
实施日期
2014年02月01日
废止日期
中国标准分类号
H81
国际标准分类号
29.045
发布单位
CN-GB
引用标准
GB/T 14264
适用范围
本标准提供了硅片表面粗糙度测量常用的轮廓仪、干涉仪、散射仪三类方法的测量原理、测量设备和程序,并规定了硅片表面局部或整个区域的标准扫描位置图形及粗糙度缩写定义。本标准适用于平坦硅片表面的粗糙度测量;也可用于其他类型的平坦晶片材料,但不适用于晶片边缘区域的粗糙度测量。本标准不适用于带宽空间波长≤10 nm的测量仪器。

GB/T 29505-2013系列标准


GB/T 29505-2013 中可能用到的仪器设备


谁引用了GB/T 29505-2013 更多引用





Copyright ©2007-2022 ANTPEDIA, All Rights Reserved
京ICP备07018254号 京公网安备1101085018 电信与信息服务业务经营许可证:京ICP证110310号